一种用于消除ITO浆料中异常元素的装置制造方法及图纸

本申请涉及靶材制备技术领域，公开了一种用于消除ITO浆料中异常元素的装置，包括装置主体、除铁组件和除钠组件，装置主体的两端分别设有进料口及出料口，装置主体的内部设有与所述进料口相连通的研磨腔，所述研磨腔内设有研磨组件，所述除铁组件及所述除钠组件均设置在所述研磨腔内；或所述除铁组件及所述除钠组件设置在所述装置主体内，并位于所述研磨腔及所述出料口之间。本申请能对ITO浆料中的铁、钠元素进行消除，实现从靶材的源头清除铁、钠杂质，使ITO靶材结晶结构完美、电学性能卓越，成品良率提升，保证了最终靶材产品使用寿命。另外，由于对ITO浆料是边研磨边除杂，无需额外提纯工序，缩短了生产周期，提高了工生产效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及靶材制备，特别是涉及一种用于消除ito浆料中异常元素的装置。

技术介绍

1、在ito(氧化铟锡)靶材制备过程中，氧化铟锡浆料的处理工序对最终靶材质量起着决定性作用。然而，氧化铟锡浆料在分散、乳化、研磨这几个关键环节均存在难以忽视的杂质引入问题。

2、在分散搅拌阶段，为实现浆料良好的流动性与均匀性所添加的粘合剂、增强剂、分散剂，它们通常含有大量的钠元素。钠元素在后续靶材溅射过程中，会迁移至靶材表面，改变表面能，导致溅射原子的吸附与脱附行为紊乱，使得靶材的溅射速率不均匀，进而影响成膜的厚度一致性。而且，钠的存在还可能与氧化铟锡中的其他成分发生化学反应，生成一些低熔点化合物，在高温溅射环境下，这些化合物会出现局部熔化、流淌现象，破坏靶材的整体结构完整性，降低靶材的使用寿命。

3、乳化和搅拌环节，由于设备部件之间的持续摩擦与磨损，不可避免地会引入铁元素。铁杂质进入氧化铟锡粉末后，在靶材溅射时，一方面，铁会作为异质成核中心，使得靶材在溅射沉积过程中形成的薄膜晶粒大小不均，严重影响薄膜的电学性能，如导致电阻率升高、载流子迁移率下降本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于消除ITO浆料中异常元素的装置，其特征在于，包括装置主体、除铁组件和除钠组件，所述装置主体的两端分别设有进料口及出料口，所述装置主体的内部设有与所述进料口相连通的研磨腔，所述研磨腔内设有研磨组件，所述除铁组件及所述除钠组件均设置在所述研磨腔内；或所述除铁组件及所述除钠组件设置在所述装置主体内，并位于所述研磨腔及所述出料口之间。

2.如权利要求1所述的用于消除ITO浆料中异常元素的装置，其特征在于：所述装置主体的内部位于所述研磨腔及所述出料口之间被过滤组件分割成除铁仓与除钠仓，所述除铁组件设于所述除铁仓内，所述除钠组件设于所述除钠仓内。

<p>3.如权利要求2...

【技术特征摘要】

1.一种用于消除ito浆料中异常元素的装置，其特征在于，包括装置主体、除铁组件和除钠组件，所述装置主体的两端分别设有进料口及出料口，所述装置主体的内部设有与所述进料口相连通的研磨腔，所述研磨腔内设有研磨组件，所述除铁组件及所述除钠组件均设置在所述研磨腔内；或所述除铁组件及所述除钠组件设置在所述装置主体内，并位于所述研磨腔及所述出料口之间。

2.如权利要求1所述的用于消除ito浆料中异常元素的装置，其特征在于：所述装置主体的内部位于所述研磨腔及所述出料口之间被过滤组件分割成除铁仓与除钠仓，所述除铁组件设于所述除铁仓内，所述除钠组件设于所述除钠仓内。

3.如权利要求2所述的用于消除ito浆料中异常元素的装置，其特征在于：所述过滤组件包括支撑盘，所述支撑盘上设有多个过液孔，所述支撑盘的一侧设有筛网，所述筛网的孔径为60～80μm。

4.如权利要求2所述的用于消除ito浆料中异常元素的装置，其特征在于：所述除铁组件为除铁树脂，所述除钠组件为除钠树脂。

5.如权利要求2所述的用于消除ito浆料中异常元素的装置，其特征在于：所述装置主体上对应所述出料口设有尾料口，且所述出料口位于所述尾料口的上方，所述出料口上设有出料管，...

【专利技术属性】
技术研发人员：韩贤昆，朱章辉，查乐林，凤吾生，
申请(专利权)人：先导薄膜材料安徽有限公司，
类型：发明
国别省市：