一种三氟甲基杂环化合物的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种三氟甲基杂环化合物的制备方法。该方法包括使式III所示的化合物在有机溶剂中和还原剂发生还原反应生成式IV所示的化合物的步骤；其中，X选自O、S或N‑R，R为氨基保护基团，n选自1,2,3或4；且当X为N‑R时，所述制备方法还包括将所述式IV所示的化合物脱去氨基保护基团R，得到化合物的步骤。本发明专利技术的制备方法较为安全，不涉及剧毒试剂的使用，且成本较低，反应条件较为温和，同时目标产物收率较高，易于产业化。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及有机合成，特别是涉及一种三氟甲基杂环化合物的制备方法。

技术介绍

1、由于三氟甲基(cf3)具有强吸电子性、亲脂性和稳定的c-f键等特性，将其引入到有机化合物中能够显著改变化合物的酸性、偶极距、极性、亲脂性以及其化学和代谢稳定性，因此含三氟甲基的化合物已在医药、农药和材料等领域得到广泛应用，其为新药研发过程中的常用分子砌块。此外，杂环在药物化学和材料科学中应用广泛，将杂环基团运用到分子中可以与靶点形成相互作用或者作为连接基团使分子形成有利于活性的几何构象，在诸多杂环结构中，含氮杂环的应用最为广泛，研究显示，在2013年至2023年间，fda批准了321种新小分子药物，其中82％含有至少一个氮杂环，这一比例相较于过去几十年的59％有了惊人的增长。因此，近些年来，含有三氟甲基的氮杂环作为一种重要的分子砌块被越来越多地应用到新药研发当中。

2、目前，该类含有三氟甲基的杂环化合物，特别是三氟甲基取代的含氮杂环化合物通常是通过相应的羧酸转化制备得到(如下式所示)。

3、

4、具体的，在无水氟化氢的催化下，四氟化硫可以本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种三氟甲基杂环化合物的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括使式III所示的化合物在有机溶剂中和还原剂发生还原反应生成式IV所示的化合物的步骤；其中，X选自O、S或N-R，R为氨基保护基团，n选自1,2,3或4；且当X为N-R时，所述制备方法还包括将所述式IV所示的化合物脱去氨基保护基团R，得到化合物的步骤。

2.根据权利要求1所述的三氟甲基杂环化合物的制备方法，其特征在于：所述还原剂选自氢气、三乙基硅烷/三氟化硼、四氢铝锂、硼氢化钠、三丁基氢化锡中的一种或多种的组合；和/或，所述有机溶剂选自四氢呋喃、二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、甲基叔丁醚、乙醚中的一种或多种的组合。<...

【技术特征摘要】

1.一种三氟甲基杂环化合物的制备方法，其特征在于：所述制备方法包括使式iii所示的化合物在有机溶剂中和还原剂发生还原反应生成式iv所示的化合物的步骤；其中，x选自o、s或n-r，r为氨基保护基团，n选自1,2,3或4；且当x为n-r时，所述制备方法还包括将所述式iv所示的化合物脱去氨基保护基团r，得到化合物的步骤。

2.根据权利要求1所述的三氟甲基杂环化合物的制备方法，其特征在于：所述还原剂选自氢气、三乙基硅烷/三氟化硼、四氢铝锂、硼氢化钠、三丁基氢化锡中的一种或多种的组合；和/或，所述有机溶剂选自四氢呋喃、二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、甲基叔丁醚、乙醚中的一种或多种的组合。

3.根据权利要求1所述的三氟甲基杂环化合物的制备方法，其特征在于：所述式iii所示的化合物与还原剂的摩尔比为1：1-5。

4.根据权利要求1所述的三氟甲基杂环化合物的制备方法，其特征在于：所述r选自苄氧羰基、叔丁氧羰基、笏甲氧羰基、烯丙氧羰基、三甲基硅乙氧羰基、邻甲基苯磺酰基、三苯甲基、2,4-二甲氧基苄基、对甲氧基苄基以及三氟乙酰基中的一种或多种的组合。

5.根据权利要求4所述的三氟甲基杂环化合物的制备方法，其特征在于：所属r为苄氧羰基，所述脱去氨基保护基团r通过在金属催化剂的存在下进行氢气还原、酸解裂解或金属钠-液氨溶液还原实现；或者，所述r为笏甲氧羰基，所述脱去氨基保护基团r通过碱性条件下水解实现；或者，所述r为三苯甲基，所述脱去氨基保护基团r通过酸解裂解实现；或者，所述r为三氟乙酰基，所述脱去氨基保护基团r通过酸解裂解或碱性条件下水解实现。

6.根据权利要求1所述的三氟甲基杂环化合物的制备方法，其特征在于：所述还原反应的时间为1-10h；和/或，所述还原反应的温度为-10至50℃。

7.根据权利要求1所述的三氟甲基杂环化合物的制备方法，其特征在于：所述制备方法还包括使式ii所示的化合物和三氟甲基化试剂发生三氟甲基化反应生成式iii所示的化合物的步骤；所述三氟甲基化试剂选自(三氟甲基)三甲基硅烷...

【专利技术属性】
技术研发人员：蔡岩，王磊，谢全星，刘振峰，王岩，高广祥，张彪，
申请(专利权)人：沧州东恩科技有限公司，
类型：发明
国别省市：