一种物体高光谱发射率拟合平滑方法技术

技术编号:45749101 阅读:13 留言:0更新日期:2025-07-08 21:41
本发明专利技术涉及一种物体高光谱发射率拟合平滑方法,属于材料热物性测试及数据处理领域,解决了现有发射率拟合平滑过程中出现假信号的问题。包括:获取待拟合波长范围内各波长对应的光谱发射率;基于各波长对应的所述光谱发射率得到各波长的单波长辐射熵;对所述各波长的单波长辐射熵使用高阶多项式拟合法得到平滑后的波长辐射熵;基于所述平滑后的波长辐射熵得到待拟合波长范围的拟合平滑后的光谱发射率。实现了从概率和熵的角度对高光谱发射率进行合理的拟合与平滑。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及材料热物性测试及数据处理领域,尤其涉及一种物体高光谱发射率拟合平滑方法


技术介绍

1、光谱发射率测量在科学研究中扮演着重要角色,在遥感、材料、隐身、冶金等领域有着非常重要的作用。在材料科学领域,高温发射率是研究材料高温氧化、腐蚀、烧结等行为的重要参数。通过测量高温发射率,可以深入了解材料的物理性质和化学反应动力学,为新型材料的研发和应用提供理论支持。

2、根据固体物理理论,光谱发射率反映了材料微观光声耦合特性,其在高光谱数据中应表现出一定的短程连续性、平滑性和一定的长程相关性。材料的光谱发射率通常具有平滑特性,也就是说,光谱发射率在波长发生变化时其导数也连续。这种平滑特性可以由材料的物理性质和表面状态决定。例如,金属材料的光谱发射率通常比较平滑,因为它们的表面比较光滑,具有连续的电子能带结构。相比之下,半导体材料的光谱发射率可能会有一些不连续的跃迁,导致不平滑的特性。

3、材料的光谱发射率还具有短程和长程相关性。短程相关性指的是光谱发射率在相邻波长之间的变化,而长程相关性则是指光谱发射率在整个光谱范围内的变化趋势。短本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种物体高光谱发射率拟合平滑方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述方法,其特征在于,基于下式得到各波长的单波长辐射熵:

3.根据权利要求1所述方法,其特征在于,所述高阶多项式拟合法包括:对于每个波长,使用核函数作为权重进行局部多项式核回归得到高阶多项式作为回归函数,并使用所述回归函数计算各所述波长的单波长辐射熵作为平滑后的波长辐射熵;其中,局部多项式核回归包括:选择与该波长相邻的预设数量的波长,在此范围内基于核函数进行多项式拟合。

4.根据权利要求3所述方法,其特征在于,所述回归函数为:

5.根据权利要求4所述方法,其...

【技术特征摘要】

1.一种物体高光谱发射率拟合平滑方法,其特征在于,包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述方法,其特征在于,基于下式得到各波长的单波长辐射熵:

3.根据权利要求1所述方法,其特征在于,所述高阶多项式拟合法包括:对于每个波长,使用核函数作为权重进行局部多项式核回归得到高阶多项式作为回归函数,并使用所述回归函数计算各所述波长的单波长辐射熵作为平滑后的波长辐射熵;其中,局部多项式核回归包括:选择与该波长相邻的预设数量的波长,在此范围内基于核函数进行多项式拟合。

4.根据权利要求3所述方法,其特征在于,所述回归函数为:

【专利技术属性】
技术研发人员:郭靖孔德仁孙红胜王加朋杜继东马寅魏郭江峰邱超于昌本刘岩
申请(专利权)人:北京振兴计量测试研究所
类型:发明
国别省市:

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