【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于纳米压印，具体涉及一种新型纳米压印设备及方法。
技术介绍
1、纳米压印技术作为一种低成本、高效率的微纳图案结构复制方法，在光学元件制造、半导体器件加工等领域占据重要地位。
2、传统纳米压印工艺依赖刚性模具或气压或液压驱动的压印方式，但在实际应用中面临诸多挑战：
3、其一，刚性模具压印时易因压力分布不均导致微纳图案结构复制精度偏差，尤其在大面积压印场景中，边缘与中心区域的压力差异可能引发图案失真；
4、其二，模具与基板贴合过程中易卷入空气形成气泡，导致压印缺陷；
5、其三，uv固化过程中光源产热可能引起胶层局部过热，易引发树脂层热膨胀变形，影响图案精度。
技术实现思路
1、为了解决上述技术问题，本专利技术提出了一种新型纳米压印设备及方法。
2、为了达到上述目的，本专利技术的技术方案如下：
3、第一方面，本专利技术公开一种新型纳米压印设备，包括：
4、流体承载体，流体承载体内置有用于承载液体的密闭...
【技术保护点】
1.新型纳米压印设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的新型纳米压印设备，其特征在于，在所述流体承载体靠近压印部的位置固定安装有承载环，所述承载环用于对软模板的边缘进行限位，所述软模板的板体与压印部贴合。
3.根据权利要求1所述的新型纳米压印设备，其特征在于，所述流体承载体与支撑架固定连接，所述支撑架与升降驱动装置传动连接，且所述支撑架上的通孔穿过导向柱，所述通孔与导向柱滑动配合以限制支撑架的升降轨迹。
4.根据权利要求1所述的新型纳米压印设备，其特征在于，所述流体承载体上设有与密闭空间连通的连通口，所述连通口通过连通管与...
【技术特征摘要】
1.新型纳米压印设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的新型纳米压印设备，其特征在于，在所述流体承载体靠近压印部的位置固定安装有承载环，所述承载环用于对软模板的边缘进行限位，所述软模板的板体与压印部贴合。
3.根据权利要求1所述的新型纳米压印设备，其特征在于，所述流体承载体与支撑架固定连接，所述支撑架与升降驱动装置传动连接，且所述支撑架上的通孔穿过导向柱，所述通孔与导向柱滑动配合以限制支撑架的升降轨迹。
4.根据权利要求1所述的新型纳米压印设备，其特征在于，所述流体承载体上设有与密闭空间连通的连通口，所述连通口通过连通管与液体存储装置连通，在所述连通管上安装有控制阀，用于调节液体注入或抽取速率。
5.根据权利要求1所述的新型纳...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄爽爽，史晓华，
申请(专利权)人：苏州光舵微纳科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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