【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及含浸装置领域，具体涉及一种含浸设备。
技术介绍
1、在电容件生产过程中，电容件进行含浸可以增强绝缘性能，含浸剂可以填充电容件内部的微小空隙，减少空气等不良绝缘介质的存在，从而大大提高电容件的绝缘电阻，因此含浸机是不可或缺的一款设备。
2、相关技术中的电容的含浸都是通过一个含浸机匹配一个机械手进行上下料的工作，即含浸机的数量与机械手的数量相匹配，含浸机在工作时机械手就处于闲置状态，这样就导致整个设备的利用率较低，且结构复杂。
技术实现思路
1、鉴于此，本专利技术提供一种含浸设备。所述含浸设备可以提升设备利用率且降低含浸设备的结构。
2、本专利技术提供了如下技术方案：
3、一种含浸设备，包括：
4、架体，所述架体至少设有上下料工位和含浸工位；
5、含浸组件，包括至少两个含浸缸和夹持机构，所述含浸缸滑动设置在所述架体上，且所述含浸缸可在所述上下料工位和所述含浸工位之间切换；每个所述含浸缸内均转动设置有所述夹持机构，所述夹持...
【技术保护点】
1.一种含浸设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的含浸设备，其特征在于，所述夹持机构包括：滚架、多个夹持件、弹性件；
3.根据权利要求2所述的含浸设备，其特征在于，所述夹持件包括：第一夹持片和第二夹持片；
4.根据权利要求3所述的含浸设备，其特征在于，所述上下料组件还包括：第一顶开机构和第二顶开机构；
5.根据权利要求4所述的含浸设备，其特征在于，所述第一顶开机构和所述第二顶开机构均包括：第一驱动件、支撑件、顶开件；
6.根据权利要求1所述的含浸设备，其特征在于，所述上下料组件构还包括：导轨、第一...
【技术特征摘要】
1.一种含浸设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的含浸设备，其特征在于，所述夹持机构包括：滚架、多个夹持件、弹性件；
3.根据权利要求2所述的含浸设备，其特征在于，所述夹持件包括：第一夹持片和第二夹持片；
4.根据权利要求3所述的含浸设备，其特征在于，所述上下料组件还包括：第一顶开机构和第二顶开机构；
5.根据权利要求4所述的含浸设备，其特征在于，所述第一顶开机构和所述第二顶开机构均包括：第一驱动件、支撑件、顶开件；
6.根据权利要求1所述的含浸设备，其特征在于，所述上下料组件构还包括：导轨...
【专利技术属性】
技术研发人员：呙德红，
申请(专利权)人：深圳市诚捷智能装备股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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