【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于处理衬底的设备，并且更具体地，涉及一种能够捕获在衬底处理期间产生的烟尘而不在腔室中形成涡流的衬底处理设备。
技术介绍
1、为了制造半导体器件或平板显示面板，需要进行各种过程，诸如沉积、摄影、蚀刻和清洁。在这些过程中，摄影过程包括将光敏剂(诸如光致抗蚀剂)涂覆到衬底表面以形成膜的涂覆过程、将电路图案转印到在衬底上形成的膜的曝光过程以及从曝光区域或与曝光区域相对的区域选择性地去除在衬底上形成的膜的显影过程。
2、在涂覆过程期间使用的光致抗蚀剂在衬底处理期间会产生含有颗粒的烟尘。需要适当地去除烟尘，因为烟尘可能会污染衬底或器件。为了去除烟尘，可以在排放路径中设置捕集环来捕获烟尘。然而，捕集环会减小排放路径的横截面积，并且可能产生气流停滞区。气流停滞区导致烟尘回流，这可能会污染衬底。
技术实现思路
1、本专利技术致力于提供一种能够去除在衬底处理期间产生的烟尘的衬底处理设备。
2、本专利技术还致力于提供一种能够防止在液体处理室中形成逆转气流的衬底处理设备
3、本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种处理衬底的设备，所述设备包括：
2.根据权利要求1所述的设备，其中当从上方观察时，所述多个杆沿着支撑在所述支撑单元上的所述衬底的周向方向设置。
3.根据权利要求1所述的设备，其中当从上方观察时，所述多个杆设置为纵向方向相对于支撑在所述支撑单元上的所述衬底的径向方向倾斜。
4.根据权利要求1所述的设备，其中所述多个杆设置为纵向方向在从所述外杯到所述引导杯的方向上向下倾斜。
5.根据权利要求1所述的设备，其中所述引导杯包括：
6.根据权利要求5所述的设备，其中所述多个杆安装为穿过所述外壁并延伸到所述第二排
【技术特征摘要】
1.一种处理衬底的设备，所述设备包括：
2.根据权利要求1所述的设备，其中当从上方观察时，所述多个杆沿着支撑在所述支撑单元上的所述衬底的周向方向设置。
3.根据权利要求1所述的设备，其中当从上方观察时，所述多个杆设置为纵向方向相对于支撑在所述支撑单元上的所述衬底的径向方向倾斜。
4.根据权利要求1所述的设备，其中所述多个杆设置为纵向方向在从所述外杯到所述引导杯的方向上向下倾斜。
5.根据权利要求1所述的设备，其中所述引导杯包括：
6.根据权利要求5所述的设备，其中所述多个杆安装为穿过所述外壁并延伸到所述第二排放通道。
7.根据权利要求6所述的设备，其中所述排放单元包括设置在所述第二排放通道中的排放管。
8.根据权利要求2所述的设备，其中所述多个杆还包括：
9.根据权利要求8所述的设备，其中当从上方观察时，所述第一杆和所述第二杆不重叠。
10.根据权利要求1所述的设备，其中当从上方观察时，多个相邻杆之间的...
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