用于蒸发的掩模框架及其再制造方法技术

技术编号:45664226 阅读:19 留言:0更新日期:2025-06-27 19:03
提供了一种用于蒸发的掩模框架及其再制造方法。该用于蒸发的掩模框架包括:第一框架部分;在第一框架部分上的第二框架部分;在第二框架部分上的第三框架部分;设置在第一框架部分和第二框架部分中的第一孔;以及设置在第三框架部分中并且连接至第一孔的第二孔。

【技术实现步骤摘要】

本公开内容涉及一种制造有机发光二极管显示装置的设备,更具体地,涉及一种用于蒸发的掩模框架及其再制造方法


技术介绍

1、作为平板显示装置之一,因为其是自发光的,所以有机发光二极管显示装置与液晶显示装置相比具有宽视角。因为不需要背光单元,所以有机发光二极管显示装置还具有厚度薄、重量轻、以及低功耗的优点。

2、此外,有机发光二极管显示装置通过直流(dc)低电压驱动并且具有快速的响应时间。此外,因为其部件是固体,所以有机发光二极管显示装置对外部冲击稳固并且在宽温度范围下使用。此外,可以以低成本制造有机发光二极管显示装置。

3、有机发光二极管显示装置可包括多个像素,每个像素具有红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素,并且可通过使红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素选择性地发光来显示各种彩色图像。

4、红色像素、绿色像素和蓝色子像素可分别具有红色发光层、绿色发光层和蓝色发光层,并且每个发光层可通过真空热蒸发工艺形成,在真空热蒸发工艺中,使用精细金属掩模(fmm)或开放金属掩模(omm)选择性地沉积发光材料。

<p>5、精细金属掩模本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于蒸发的掩模框架,包括:

2.根据权利要求1所述的用于蒸发的掩模框架,进一步包括设置在所述第三框架部分中的至少一个凹槽。

3.根据权利要求2所述的用于蒸发的掩模框架,其中所述至少一个凹槽的深度小于所述第三框架部分的厚度。

4.根据权利要求1所述的用于蒸发的掩模框架,其中在所述第一框架部分上设置多个第二框架部分,并且在所述多个第二框架部分中的每一个上设置所述第三框架部分。

5.根据权利要求1所述的用于蒸发的掩模框架,其中在所述第二框架部分的顶表面设置有被填充的凹槽。

6.根据权利要求1所述的用于蒸发的掩模框架,其中所述第...

【技术特征摘要】

1.一种用于蒸发的掩模框架,包括:

2.根据权利要求1所述的用于蒸发的掩模框架,进一步包括设置在所述第三框架部分中的至少一个凹槽。

3.根据权利要求2所述的用于蒸发的掩模框架,其中所述至少一个凹槽的深度小于所述第三框架部分的厚度。

4.根据权利要求1所述的用于蒸发的掩模框架,其中在所述第一框架部分上设置多个第二框架部分,并且在所述多个第二框架部分中的每一个上设置所述第三框架部分。

5.根据权利要求1所述的用于蒸发的掩模框架,其中在所述第二框架部分的顶表面设置有被填充的凹槽。

6.根据权利要求1所述的用于蒸发的掩模框架,其中所述第三框架部分具有300μm或更大的厚度。

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【专利技术属性】
技术研发人员:朴钟贤李豪永金宗贤权贤秀权五燮
申请(专利权)人:乐金显示有限公司
类型:发明
国别省市:

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