【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及真空离子镀膜机，尤其涉及带有自清洁功能的真空离子镀膜机腔体结构。
技术介绍
1、真空离子镀膜机是一种利用真空环境和离子技术进行材料表面镀膜的设备，广泛应用于工业、电子、光学、装饰等领域。其核心原理是通过物理或化学方法在真空条件下将镀膜材料转化为离子或原子状态，并在电场或等离子体的作用下沉积到基材表面，形成致密、均匀的薄膜。
2、目前真空离子镀膜机在镀膜的过程中，镀膜腔体的内壁上易积累大量残留的材料，这些材料附着在腔体的内壁上，在镀膜的过程中可能会脱落，溅射到基材的表面上，导致膜层出现针孔、凸起或杂质嵌入，残留的物质可能会吸附气孔，在抽真空的过程中释放，导致真空度波动，延长抽气时间，为此提出了一种带有自清洁功能的真空离子镀膜机腔体结构。
技术实现思路
1、本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的带有自清洁功能的真空离子镀膜机腔体结构。
2、为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：
3、一种带有自清洁功能的真空离子镀膜机...
【技术保护点】
1.带有自清洁功能的真空离子镀膜机腔体结构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的带有自清洁功能的真空离子镀膜机腔体结构，其特征在于，所述镀膜腔的两侧对称安装有侧板（2），所述侧板（2）的一侧呈外凸的三角状，所述侧板（2）固定在装置本体（1）内，二者之间相互适配，所述外开门（3）对称安装在装置本体（1）的前侧面上，所述斜侧门（4）倾斜安装在装置本体（1）的前侧面上。
3.根据权利要求2所述的带有自清洁功能的真空离子镀膜机腔体结构，其特征在于，所述限位杆（8）设置有两个，两个限位杆（8）对称安装在镀膜腔两侧的顶面和底面之间，所述清洁架上开设...
【技术特征摘要】
1.带有自清洁功能的真空离子镀膜机腔体结构，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的带有自清洁功能的真空离子镀膜机腔体结构，其特征在于，所述镀膜腔的两侧对称安装有侧板（2），所述侧板（2）的一侧呈外凸的三角状，所述侧板（2）固定在装置本体（1）内，二者之间相互适配，所述外开门（3）对称安装在装置本体（1）的前侧面上，所述斜侧门（4）倾斜安装在装置本体（1）的前侧面上。
3.根据权利要求2所述的带有自清洁功能的真空离子镀膜机腔体结构，其特征在于，所述限位杆（8）设置有两个，两个限位杆（8）对称安装在镀膜腔两侧的顶面和底面之间，所述清洁架上开设有滑槽，所述限位杆（8）连接在滑槽内，所述装置本体（1）的顶面上对称安装有第一电机（5），第一电机（5）的输出端上安装有螺杆（15），所述螺杆（15）转动连接在镀膜腔内，所述清洁架螺纹连接在螺杆（15）的外侧。
4.根据权利要求3所述的带有自清洁功能的真空离子镀膜机腔体结构，其特征在于，所述清洁架呈“匚”字形，所述清洁架的两端上均开设有收纳槽，所述清洁架外...
【专利技术属性】
技术研发人员：徐明清，
申请(专利权)人：常州市迈瑞廷涂层科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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