反射率校正ToF测距方法、装置、设备及存储介质制造方法及图纸

技术编号:45621572 阅读:16 留言:0更新日期:2025-06-24 18:48
本公开实施例公开了一种反射率校正ToF测距方法、装置、设备及存储介质,其中方法包括:获取经待测目标反射的不同回光强度的光束的光子统计结果;其中,所述光子统计结果包括光子的探测时间和与探测时间对应的光子数量;根据各光束对应的光子统计结果,确定探测到各光束的共同起始时间;根据所述探测到各光束的共同起始时间,以及发射光束的起始时间,确定所述待测目标的待测距离。通过该方案,可以提高确定待测目标的待测距离的准确性。

【技术实现步骤摘要】

本公开涉及但不限于测距领域,尤其涉及一种反射率校正tof测距方法、装置、设备及存储介质。


技术介绍

1、通常,光子飞行时间(time of flight,tof)测距方法是通过光束发射器(如激光发射器)发射光束,光束照射到待测目标后,经待测目标漫反射至光子探测器;通过计时器记录光束发射器发射光束的时间,以及光子探测器探测到待测目标反射的光子的时间,确定光子飞行时间,再根据光速、时间与距离的关系,换算出待测目标的待测距离。

2、相关技术实际应用中,一般通过多次发射光束来产生大量的光子飞行事件,再通过统计光子飞行时间对应的事件次数得到直方图,确定直方图的峰值所在位置为待测目标距离的光子飞行时间,进而根据光子飞行时间确定待测目标的位置。但是,相关技术中采用直方图的峰值所在位置确定被测目标的光子飞行时间存在测不准的问题,其根本在于:直方图的峰值与理论距离的直方图的峰值出现偏差,出现偏差的原因包括多种情况,具体见本公开的说明书及相关附图部分。因此,如何提高确定光子飞行时间的准确性,进而提高测距结果的准确性,亟待解决。


技术实现本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种反射率校正ToF测距方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据各光束对应的光子统计结果,确定探测到各光束的共同起始时间,包括:

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述聚集度为光子统计结果在直方图中的峰展宽、半高宽、标准差、方差中的一者。

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述第一关系和所述第二关系,确定所述探测到各光束的共同起始时间,包括:

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,经待测目标反射的光束的回光强度与待测目标的待测距离、待测目标的光反射率、发射至待测目标...

【技术特征摘要】

1.一种反射率校正tof测距方法,其特征在于,所述方法包括:

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据各光束对应的光子统计结果,确定探测到各光束的共同起始时间,包括:

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述聚集度为光子统计结果在直方图中的峰展宽、半高宽、标准差、方差中的一者。

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述根据所述第一关系和所述第二关系,确定所述探测到各光束的共同起始时间,包括:

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,经待测目标反射的光束的回光强度与待测目标的待测距离、待测目标的光反射率、发射至待测目标的光束强度或者感光元件的灵敏度相关。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获取经...

【专利技术属性】
技术研发人员:张睿宋林胤张玺邓超
申请(专利权)人:武汉北极芯微电子有限公司
类型:发明
国别省市:

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