【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及激光电子，尤其涉及一种高光束质量193nm紫外激光产生装置。
技术介绍
1、193nm紫外激光在光刻、光谱学、医学等领域有广泛的应用，例如193nm激光器作为arf振荡器和放大器已经成功用于光刻。然而，arf准分子激光器的低相干性限制了更广泛的应用。相比于准分子激光器，基于固体激光器非线性频率变换获得的193nm深紫外光源具有高光束质量、高重频、高相干性等优点，寿命更长，维护成本更低，已经用于半导体检测和光纤光栅刻写等方面，具有很大的市场前景和发展潜力。
2、目前，193 nm激光的产生依赖于非线性光学晶体（如lbo、kbbf）的级联和频过程，深紫外晶体的生长技术复杂，如kbbf晶体的层状结构导致其难以加工为实用化器件，需依赖棱镜耦合技术实现深紫外输出，增加了技术复杂性和成本，而lbo晶体的转换效率较低，低效率限制了输出功率的提升，bbo晶体的走离角较大难以保证光束质量与效率，同时高功率下晶体易受热效应和光损伤影响，难以满足工业上对高光束质量、高效率的193nm激光器的需求。此外，在光学系统设计中，现有的激光器...
【技术保护点】
1.一种高光束质量193nm紫外激光产生装置，其特征在于包括：
2.如权利要求1所述的高光束质量193nm紫外激光产生装置，其特征在于：所述第一皮秒激光源（1）和第二皮秒激光源（2）分别为1064nm皮秒激光源（1）和2053nm皮秒激光源（2）。
3.如权利要求2所述的高光束质量193nm紫外激光产生装置，其特征在于：所述1064nm皮秒激光源（1）是由掺钕钇铝石榴石Nd:YAG晶体或掺钕钒酸钇Nd:YVO4晶体作为增益介质的脉冲激光振荡器或脉冲激光放大器，重复频率为81.9MHz。
4.如权利要求2所述的高光束质量193nm紫外...
【技术特征摘要】
1.一种高光束质量193nm紫外激光产生装置，其特征在于包括：
2.如权利要求1所述的高光束质量193nm紫外激光产生装置，其特征在于：所述第一皮秒激光源（1）和第二皮秒激光源（2）分别为1064nm皮秒激光源（1）和2053nm皮秒激光源（2）。
3.如权利要求2所述的高光束质量193nm紫外激光产生装置，其特征在于：所述1064nm皮秒激光源（1）是由掺钕钇铝石榴石nd:yag晶体或掺钕钒酸钇nd:yvo4晶体作为增益介质的脉冲激光振荡器或脉冲激光放大器，重复频率为81.9mhz。
4.如权利要求2所述的高光束质量193nm紫外激光产生装置，其特征在于：所述2053nm皮秒激光源（2）的中心波长为2053nm，重复频率为81.9mhz。
5.如权利要求1所述的高光束质量193nm紫外激光产生装置，其特征在于：所述的第一延时器(13)和第二延时器（24）是任意一种能够对1064nm红外激光脉冲进行延时的装置，用于使所述1064nm红外激光脉冲的时域与所述266nm深紫外激光脉冲的时域重合。
6.如权利要求1所述的高光束质量193nm紫外激光产生装置，其特征在于：所述第一半波片(12)为1064nm红外激光脉冲的半波片，镀有1064nm增透膜，所述第二半波片(23)为2053nm红外激光脉冲的半波片，镀有2053nm增透膜；所述第一近红外反射镜（4）、第二近红外反射镜（14）和第三近红外反射镜（15）镀有1064nm红外激光脉冲高反膜；所述2053nm反射镜（26）镀有2053nm红外激光脉冲高反膜。
7.如权利要求1所述的高光束质量193nm紫外激光产生装置，其特征在于：所述二倍频晶体lbo(5)是一种能够对1064nm红外激光脉冲进行二倍频转换的lbo晶体，该晶体的两个通光面均镀有1064nm和532nm增透膜；所述四倍频晶体clbo(8)是一种能够对532nm激光进行倍频的晶体clbo，该晶体的两个通光面均镀532nm和266nm增透膜；所述第一和频晶体clbo(19)是一种能够进行和频的晶体clbo，该晶体的两个通光面均镀10...
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