【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于光学目的的微结构和纳米结构的制造。具体而言，本专利技术涉及制造光学衍射光栅，该光学衍射光栅可例如在显示应用(诸如近眼式显示器)中使用。
技术介绍
1、近眼式显示器(ned)和平视显示器(hud)通常包括衍射光栅以生成可视图像。所需光栅为内耦合光栅，其将图像从图像源耦合到波导；为外耦合光栅，其为用户生成最终的可视图像；以及为出瞳扩展器(epe)，其增大显示器出瞳的大小。
2、光栅的质量和特性确定所得图像的质量。除了具有清晰一致的光栅线之外，在高级应用中，还期望能够局部控制光栅的衍射效率。这可以通过改变光栅内的光栅线高度或填充因子(即，使用高度或填充因子调制)来实现。为了实现最大可能效率调整范围，高度和填充因子两者应被调制。因此，需要用于衍射光栅的稳健且成本高效的制造方法，其中可自由地控制衍射效率，并且该方法适用于大规模生产。此外，在一些情形中，需要非聚合物材料，其与直接聚合物调制相比增加了工艺复杂性。
3、高度调制元件的制造一般通过重复制造周期来完成，其中在一个周期内定义一个高度。具体而言，在同一...
【技术保护点】
1.一种制造衍射光栅的方法，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一基板通过剥离被去除，包括机械的、物理的或化学的材料去除。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述临时光栅材料是使用能针对牺牲材料来选择的化学或物理蚀刻方法来被去除的。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一和第二表面轮廓包括不同高度的特征以用于制造经高度调制的衍射光栅。
5.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述第一和第二表面轮廓包括不同宽度的特征以用于制造经填充因子调制的衍射光栅。
6.根据...
【技术特征摘要】
1.一种制造衍射光栅的方法，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一基板通过剥离被去除，包括机械的、物理的或化学的材料去除。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述临时光栅材料是使用能针对牺牲材料来选择的化学或物理蚀刻方法来被去除的。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一和第二表面轮廓包括不同高度的特征以用于制造经高度调制的衍射光栅。
5.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述第一和第二表面轮廓包括不同宽度的特征以用于制造经填充因子调制的衍射光栅。
6.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，包括使用纳米压印光刻、电子束光刻或光学光刻来制造所述第一表面轮廓。
7.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，包括使用原子层沉积、化学气相沉积、物理气相沉积、旋涂、喷涂或喷墨印刷或其变体来施加所述光栅材料。
8.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述光栅材料层在沉积之后具有平坦的自由表面，所述第二基板被接合到所述自由表面上。
9.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述光栅材...
【专利技术属性】
技术研发人员：J·奥尔科宁，I·瓦蒂亚宁，J·拉霍迈基，
申请(专利权)人：迪斯帕列斯有限公司，
类型：发明
国别省市：
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