阵列基板和显示面板制造技术

技术编号:45173676 阅读:23 留言:0更新日期:2025-05-09 12:47
本申请公开了一种阵列基板和显示面板,阵列基板包括衬底、遮光层、缓冲层、导电辅助层以及薄膜晶体管;遮光层设于衬底的一侧;缓冲层设于衬底的一侧,并覆盖遮光层;缓冲层包括第一缓冲部,第一缓冲部设于遮光层的侧面;导电辅助层包括第一子部,第一子部设于第一缓冲部远离遮光层的一侧;薄膜晶体管设于缓冲层远离衬底的一侧,薄膜晶体管包括半导体层,半导体层设于缓冲层远离衬底的一侧,并至少覆盖第一子部。本申请可以提高薄膜晶体管的开态电流,从而改善显示效果。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及显示,具体涉及一种阵列基板和显示面板


技术介绍

1、为了制备高性能的显示面板,需要提供高性能的阵列基板。阵列基板中包括多个薄膜晶体管。在传统的顶栅结构的薄膜晶体管中,半导体层包括相连接的沟道部和导体部,为了减小漏电流,通常会在沟道部下方设置遮光层。

2、但遮光层的设计垫高了沟道部,导致沟道部与导体部形成段差。在阵列基板的制程中,对导体部进行导体化处理时,导体部中与衬底所在平面不平行的一部分无法进行充分的导体化处理,使得薄膜晶体管的开态电流降低,影响显示效果。

3、故,有必要提出一种新的技术方案,以解决上述技术问题。


技术实现思路

1、本申请的目的在于提供一种阵列基板和显示面板,可以提高薄膜晶体管的开态电流,从而改善显示效果。

2、为解决上述问题,本申请的技术方案如下:

3、本申请提出了一种显示面板,包括:

4、衬底;

5、遮光层,设于所述衬底的一侧;

6、缓冲层,设于所述衬底的一侧,并覆盖所述遮光层,所述缓冲层包括本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种阵列基板,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述缓冲层还包括第二缓冲部和第三缓冲部;所述第二缓冲部设于所述遮光层远离所述衬底的一面,并连接于所述第一缓冲部;所述第三缓冲部设于所述衬底的一侧,并连接于所述第一缓冲部;

3.如权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述导电辅助层还包括第二子部,所述第二子部设于所述第三缓冲部远离所述衬底的一侧,所述第二子部连接于所述第一子部;

4.如权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述导体部包括:

5.如权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述导电辅助层还包括第三子部...

【技术特征摘要】

1.一种阵列基板,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述缓冲层还包括第二缓冲部和第三缓冲部;所述第二缓冲部设于所述遮光层远离所述衬底的一面,并连接于所述第一缓冲部;所述第三缓冲部设于所述衬底的一侧,并连接于所述第一缓冲部;

3.如权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述导电辅助层还包括第二子部,所述第二子部设于所述第三缓冲部远离所述衬底的一侧,所述第二子部连接于所述第一子部;

4.如权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述导体部包括:

5.如权利要求3所述的阵列基板,其特征在于,所述导电辅助层还包括第三子...

【专利技术属性】
技术研发人员:张鹏
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司
类型:新型
国别省市:

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