标记位置确定方法、光刻方法、制造物品的方法、存储器介质和光刻装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了标记位置确定方法、光刻方法、制造物品的方法、存储器介质和光刻装置。确定标记位置的方法包括：基于通过使用捕获标记的图像的观测仪获取的图像上的标记图像的位置来确定标记图像的临时位置；基于指示观测仪的畸变量的二维分布的畸变图和标记图像来确定用于校正临时位置的校正量；并且通过基于校正量对临时位置进行校正来确定标记的位置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及确定标记位置的方法、光刻方法、制造物品的方法、存储器介质和光刻装置。

技术介绍

1、可以通过使用观测仪(scope)捕获标记的图像并且处理获得的图像来检测设置在基板等上的标记的位置。如果观测仪具有不可忽略的畸变(distortion)，那么畸变可能影响标记的位置的检测精确度。日本专利公开no.2005-285916公开了测量目标的位置、将目标馈送到光学系统的视野中心、并且然后再次测量目标的位置的方法。日本专利公开no.2006-30021公开了通过预先获取畸变对观察目标的区域的影响来校正测得的值的方法。

2、日本专利公开no.2005-285916中公开的方法要求将目标放置到视野中心的处理，因此延长测量所需的时间。因为畸变的影响量根据标记的形状而改变，所以日本专利公开no.2006-30021中公开的方法不能实现精确的校正。

技术实现思路

1、本专利技术提供一种有利于以高精确度检测标记的位置的技术。

2、本专利技术的第一方面提供一种确定标记位置的方法，该方法包括：基于通过本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种确定标记位置的方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其中，在确定所述校正量时，基于与所述标记图像的边缘的位置相对应的畸变图中的畸变量来确定所述校正量。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述标记图像具有与第一方向交叉的第一边缘、以及与和第一方向正交的第二方向交叉的第二边缘，

4.根据权利要求3所述的方法，其中，在确定所述校正量时，通过执行与第一边缘的多个位置相对应的多个第一畸变量的统计处理来确定第一校正量，并且通过执行与第二边缘的多个位置相对应的多个第二畸变量的统计处理来确定第二校正量。

5.根据权利要求4所述的...

【技术特征摘要】

1.一种确定标记位置的方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其中，在确定所述校正量时，基于与所述标记图像的边缘的位置相对应的畸变图中的畸变量来确定所述校正量。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述标记图像具有与第一方向交叉的第一边缘、以及与和第一方向正交的第二方向交叉的第二边缘，

4.根据权利要求3所述的方法，其中，在确定所述校正量时，通过执行与第一边缘的多个位置相对应的多个第一畸变量的统计处理来确定第一校正量，并且通过执行与第二边缘的多个位置相对应的多个第二畸变量的统计处理来确定第二校正量。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述统计处理包括获得平均值的处理。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述平均值是算术均值。

7.根据权利要求5所述的方法，其中，所述平均值是加权平均值。

8.根据权利要求1所述的方法，还包括基于通过使用所述观测仪捕获布置有...

【专利技术属性】
技术研发人员：江头信一，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：