【技术实现步骤摘要】
本技术涉及半导体设备领域,具体为一种研磨片自动刷洗插片设备。
技术介绍
1、在半导体硅片加工领域,现有的研磨片清洗和插片过程主要依赖人工操作,将硅晶圆片插入到片篮中的工序对硅片的清洁度和操作效率有很高的要求。人工水中插篮的方法效率低下,且容易导致硅片擦伤和污染;因此,有必要开发一种能够自动完成研磨片清洗和插片的设备。
技术实现思路
1、本技术提供了一种研磨片自动刷洗插片设备,可以解决现有的研磨片清洗和插片过程主要依赖人工操作,效率低下且容易划伤产品的问题。
2、为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种研磨片自动刷洗插片设备,包括机台;传送带,其设置在所述机台的左端;清洗组件,其设置在所述传送带的一侧;装盘组件,其设置在所述机台的右部,所述清洗组件和所述装盘组件之间通过倾斜设置的滑台相连;所述清洗组件包括多个并排设置的刷洗组一和刷洗组二,所述刷洗组一包括上下对称设置的两个柔性毛刷,所述刷洗组二包括上下对称设置的两个海绵刷,所述柔性毛刷和所述海绵刷的两侧均设置有输送滚杠,所述输
...【技术保护点】
1.一种研磨片自动刷洗插片设备,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的研磨片自动刷洗插片设备,其特征在于:所述滑台(5)呈中空结构,所述滑台(5)的侧部设置有接水口(51),其上表面设置有多个开槽(52),所述开槽(52)沿硅片前进方向布置,所述开槽(52)内设置有间隔设置有多个与内腔相连通的出水孔(53)。
3.根据权利要求1所述的研磨片自动刷洗插片设备,其特征在于:所述传送带(2)的两侧和所述滑台(5)的两侧均设置有挡板(6),相对的所述挡板(6)之间形成输送通道且间距可调,所述挡板(6)的侧部设置有气缸(7),所述气缸(7)与所述机
...【技术特征摘要】
1.一种研磨片自动刷洗插片设备,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的研磨片自动刷洗插片设备,其特征在于:所述滑台(5)呈中空结构,所述滑台(5)的侧部设置有接水口(51),其上表面设置有多个开槽(52),所述开槽(52)沿硅片前进方向布置,所述开槽(52)内设置有间隔设置有多个与内腔相连通的出水孔(53)。
3.根据权利要求1所述的研磨片自动刷洗插片设备,其特征在于:所述传送带(2)的两侧和所述滑台(5)的两侧均设置有挡板(6),相对的所述挡板(6)之间形成输送通道且间距可调,所述挡板(6)的侧部设置有气缸(7),所述气缸(7)与所述机台(1)固定连接。
4.根据权利要求1所述的研磨片自动刷洗插片设备,其特征在于:所述滑台(5)靠近所述装盘组件(4)的...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴少奇,臧佳伟,
申请(专利权)人:金瑞泓微电子衢州有限公司,
类型:新型
国别省市:
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