一种键合对准装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种键合对准装置及方法，键合对准装置包括：第一工作台，包括第一表面，用于固定第一待对准件；第二工作台，包括第二表面，用于固定第二待对准件，且第二表面和第一表面沿第一方向相对且间隔设置；间隙调节机构，用于沿第一方向调节第二表面与第一表面之间的间隙；第一透光结构，沿第一方向贯穿第一工作台；第二透光结构，沿第一方向贯穿第二工作台；透射光源，位于所述第二工作台背离所述第一工作台一侧；透射光采集器，位于所述第一工作台背离所述第二工作台一侧。本发明专利技术采用透射光采集器同时捕捉第一标记和第二标记，且仅需要在一个方向移动其中一个工作台，不需要反复运动避让捕捉空间，提高了对准精度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及半导体，特别涉及一种键合对准装置及方法。

技术介绍

1、晶圆键合工艺主要是通过对两片不同晶圆上的嵌套标记(mark)经行定位和对准，从而达到键合的精度。随着半导体技术的发展，键合要求的不断提高，开发一种更优异的对准技术是必要的。

技术实现思路

1、本专利技术公开了一种键合对准装置及方法，用于提高对准精度。

2、为达到上述目的，本专利技术提供以下技术方案：

3、第一方面，本专利技术提供一种键合对准装置，包括：

4、第一工作台，包括第一表面，用于固定第一待对准件；

5、第二工作台，包括第二表面，用于固定第二待对准件，且所述第二表面和所述第一表面沿第一方向相对且间隔设置；

6、间隙调节机构，用于沿所述第一方向调节所述第二表面与所述第一表面之间的间隙；

7、第一透光结构，沿所述第一方向贯穿所述第一工作台，用于透射光线；

8、第二透光结构，沿所述第一方向贯穿所述第二工作台，用于透射光线；

9、透射光源，位于所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种键合对准装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的键合对准装置，其特征在于，所述第一工作台还包括：

3.根据权利要求2所述的键合对准装置，其特征在于，所述第一对准组件包括多个第一压电单元，用于驱动所述第一承载台在所述第一表面二维移动；所述第二对准组件包括多个第二压电单元，用于驱动所述第二承载台在所述第二表面二维移动。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的键合对准装置，其特征在于，所述第一透光结构和/或所述第二透光结构为通孔。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的键合对准装置，其特征在于，所述第一透光结构和所述第二透光结构数量...

【技术特征摘要】

1.一种键合对准装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的键合对准装置，其特征在于，所述第一工作台还包括：

3.根据权利要求2所述的键合对准装置，其特征在于，所述第一对准组件包括多个第一压电单元，用于驱动所述第一承载台在所述第一表面二维移动；所述第二对准组件包括多个第二压电单元，用于驱动所述第二承载台在所述第二表面二维移动。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的键合对准装置，其特征在于，所述第一透光结构和/或所述第二透光结构为通孔。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的键合对准装置，其特征在于，所述第一透光结构和所述第二透光结构数量相同，且一一对应设置；或者，

6.根据权利要求1-3中任一项所述的键合对准装置，其特征在于，所述键合对准装置还包括第一支架，所述第一支架包括第一固定端和第一活动端，所述第一固定端滑动设于所述第二工作台，所述透射光源滑动设...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖俊雄，
申请(专利权)人：武汉楚兴技术有限公司，
类型：发明
国别省市：