【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及镀膜工艺，尤其涉及一种光学镀膜方法。
技术介绍
1、真空镀膜是一种在真空环境中，通过加热蒸发镀膜材料（如金属、合金或化合物）并使其气化，粒子随后飞至待加工件的表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀以其成膜方法简单、薄膜纯度高、致密性好、膜结构和性能独特而著称，广泛应用于电子、光学、半导体等领域。
2、在镀膜处理过程中，镀膜卡具用于直接遮挡非镀膜区域，确保仅在指定区域进行镀膜。由于卡具需与非镀膜区域实现精确的匹配，因此对其制造精度要求极为严格。高精度的卡具不仅增加了设计和加工难度，还增加了制造成本。
技术实现思路
1、本专利技术提供一种光学镀膜方法，用以解决现有技术中镀膜过程中对卡具精度要求高从而导致成本增加的缺陷，实现低成本镀膜。
2、本专利技术提供一种光学镀膜方法，包括：
3、s1、在待加工件表面的非镀膜区域制作保护涂层；
4、s2、对所述待加工件的镀膜区域和至少部分非镀膜区域进行镀膜处理；
5、s3、去除所述非镀膜区域的保
【技术保护点】
1.一种光学镀膜方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光学镀膜方法，其特征在于，所述S1包括：
3.根据权利要求2所述的光学镀膜方法，其特征在于，所述S12包括：
4.根据权利要求3所述的光学镀膜方法，其特征在于，所述S12包括：
5.根据权利要求2所述的光学镀膜方法，其特征在于，所述S1包括：
6.根据权利要求5所述的光学镀膜方法，其特征在于，烘烤温度为150度-250度，烘烤时间为40分钟-50分钟。
7.根据权利要求5所述的光学镀膜方法，其特征在于，所述S15包括：
...
【技术特征摘要】
1.一种光学镀膜方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的光学镀膜方法，其特征在于，所述s1包括：
3.根据权利要求2所述的光学镀膜方法，其特征在于，所述s12包括：
4.根据权利要求3所述的光学镀膜方法，其特征在于，所述s12包括：
5.根据权利要求2所述的光学镀膜方法，其特征在于，所述s1包括：
6.根据权利要求5所述的光学镀膜方法，其特征在于，烘烤温度为150度-250度，烘烤时间为40分钟-50分钟...
【专利技术属性】
技术研发人员：李彬，贺智勇，于志婷，
申请(专利权)人：北京创思镀膜有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。