【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学膜，尤其是涉及一种用于光学膜断面微结构形貌分析的制样方法。
技术介绍
1、常见液晶显示模组里背光模组的光学膜一般包含扩散膜与增亮膜以及由这两种膜片复合而成的复合膜片。其中，增亮膜一般由第一层基材、层积在其中一侧的第二层抗刮伤涂层与层积在另一侧的第三层棱镜层所构成。借助于棱镜层中微结构对于光线的收敛作用，背光模组正视角下的亮度得以有效增加，进而整个液晶显示模组的能效得以提升。特别地，棱镜层微结构的周期、顶角等结构参数是影响光线收敛效果的关键因素。
2、因此，在增亮膜的生产制造过程中，微结构参数是一项重要的光学指标。同时，考虑到增亮膜的制造一般采用卷对卷的连续生产工艺，如何保证测试的时效性以及减少材料浪费，也是需要重点考量的指标。
3、金相分析是材料学中对材料进行微结构、元素与成分分析的常见手段，也同样适用于光学膜微结构的形貌分析，但首先需要对这些待测、待分析的样品进行“金相制样”，然后再进行喷金后置入电子显微镜中进行观测分析与量测。
4、现有金相制样方法通常包含以下四个步骤：
<...【技术保护点】
1.一种用于光学膜断面微结构形貌分析的制样方法，其特征在于，所述制样方法包括：
2.根据权利要求1所述的用于光学膜断面微结构形貌分析的制样方法，其特征在于，所述待测光学膜样品包括具有微结构的3D光栅膜、广视角膜、匀光膜、增亮膜中的任意一种。
3.根据权利要求1所述的用于光学膜断面微结构形貌分析的制样方法，其特征在于，所述PET保护膜的透明保护膜层厚度为38～100μm。
4.根据权利要求1所述的用于光学膜断面微结构形貌分析的制样方法，其特征在于，所述PET保护膜的胶层厚度为5～20μm。
5.根据权利要求1所述的用于光学...
【技术特征摘要】
1.一种用于光学膜断面微结构形貌分析的制样方法，其特征在于，所述制样方法包括：
2.根据权利要求1所述的用于光学膜断面微结构形貌分析的制样方法，其特征在于，所述待测光学膜样品包括具有微结构的3d光栅膜、广视角膜、匀光膜、增亮膜中的任意一种。
3.根据权利要求1所述的用于光学膜断面微结构形貌分析的制样方法，其特征在于，所述pet保护膜的透明保护膜层厚度为38～100μm。
4.根据权利要求1所述的用于光学膜断面微结构形貌分析的制样方法，其特征在于，所述pet保护膜的胶层厚度为5～20μm。
5.根据权利要求1所述的用于光学膜断面微结构形貌分析的制样方法，其特征在于，...
【专利技术属性】
技术研发人员：李刚，张彦，缪锴，王灵杰，冯读超，高斌基，唐海江，
申请(专利权)人：宁波激智科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。