一种三维原子探针样品及其制备方法技术

技术编号:44965837 阅读:22 留言:0更新日期:2025-04-12 01:37
本发明专利技术涉及一种三维原子探针样品的制备方法,包括以下步骤:S1、样品在扫描电子显微镜下成像,并在样品表面标记感兴趣的区域;S2、对所述区域进行切割,暴露出样品的截面;S3、对所述截面进行离子束辐照,以使所述截面中的晶界两侧产生利于观察的明暗衬度;S4、根据衬度所在位置,切割样品形成包含晶界的薄片样品;S5、环形切割所述薄片样品,形成包含所述晶界的针尖样品。本发明专利技术的制备方法提供了高效精准定位,有效降低了样品制备时间,以及提升了样品制备成功率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及微纳尺度材料样品制备,具体涉及一种三维原子探针样品及其制备方法


技术介绍

1、目前制备三维原子探针样品的针尖尖端直径在100nm以下,对于包含合金界面的样品制备,要将所需观测的界面包含在针尖体积内。然而对于复杂相成分的合金材料来说,既包含晶界界面,又包含相界面。这些界面在扫描电子束成像中很难区分,导致在针尖制备过程中对晶界定位具有不确定性。

2、晶界的性质和特征对于合金的性能具有重要影响。因此,需要一种高效、准确的方法来定位和制备包含晶界的样品,以便进行进一步的研究和应用。


技术实现思路

1、为了解决上述问题,本专利技术提出了一种三维原子探针样品的制备方法,可以有效提高样品制备效率。所述制备方法包括以下步骤:

2、s1、样品在扫描电子显微镜下成像,并在样品表面标记感兴趣的区域;

3、s2、对所述区域进行切割,暴露出样品的截面;

4、s3、对所述截面进行离子束辐照,以使所述截面中的晶界两侧产生利于观察的明暗衬度;

5、s4、根据衬度所在本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种三维原子探针样品的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.如权利要求1所述的三维原子探针样品的制备方法,其特征在于,步骤S3中离子束辐照的束流为100pA至200pA,辐照持续时间不低于15秒。

3.如权利要求1所述的三维原子探针样品的制备方法,其特征在于,所述样品为金属合金。

4.如权利要求3所述的三维原子探针样品的制备方法,其特征在于,还包括在切割样品时对样品进行冷却的步骤。

5.如权利要求1所述的三维原子探针样品的制备方法,其特征在于,在步骤S1中采用聚焦离子束诱导化学气相沉积在感兴趣区域沉积金属,对样品表面进行标记。...

【技术特征摘要】

1.一种三维原子探针样品的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.如权利要求1所述的三维原子探针样品的制备方法,其特征在于,步骤s3中离子束辐照的束流为100pa至200pa,辐照持续时间不低于15秒。

3.如权利要求1所述的三维原子探针样品的制备方法,其特征在于,所述样品为金属合金。

4.如权利要求3所述的三维原子探针样品的制备方法,其特征在于,还包括在切割样品时对样品进行冷却的步骤。

5.如权利要求1所述的三维原子探针样品的制备方法,其特征在于,在步骤s1中采用聚焦离子束诱导化学气相沉积在感...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄亚敏
申请(专利权)人:上海汽车芯片工程中心有限公司
类型:发明
国别省市:

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