【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及陶瓷材料制备,具体涉及一种高致密高热导氮化硅陶瓷及其制备方法与应用。
技术介绍
1、氮化硅(si3n4)因其优异的力学性能、化学稳定性和高热导率,在电子、航空航天、精密机械等领域得到了广泛应用。近年来,随着制造业向高性能和复杂结构的方向发展,传统的氮化硅制备方法(如模压、注射成型)已难以满足复杂形状、高精度及定制化要求。
2、光固化3d打印技术以其高精度、高效率的成型特点,为复杂形状陶瓷件的制造提供了新的解决方案。然而,传统光固化陶瓷浆料多以氧化物陶瓷为主,氮化物陶瓷浆料的研发仍面临诸多挑战。尤其是高热导氮化硅浆料,由于材料本身的高粘度、高固相含量和光学特性限制,其在光固化打印中的流动性、分散性及固化性难以兼顾,直接影响打印件的精度和性能。
3、现有技术中,虽然已提出一些改进浆料配方的方法,例如通过引入分散剂、改性光引发剂或优化浆料组分来改善氮化硅浆料的性能,但这些方法在提升浆料流动性或固化速度的同时,往往导致材料的热导率下降,难以满足高热导应用场景的需求。此外,未充分解决浆料在长时间打印中的稳定性
...【技术保护点】
1.一种高致密高热导氮化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述氮化硅、氧化镁、氧化钇的平均粒径为0.1-1.0μm。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述光敏树脂为HEA、HDDA中的任意一种或多种的混合。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述分散剂为CPD03、CPD07、CPD08中的任意一种或多种的混合。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述引发剂为CPI-01、CPI-02、CPI-03中的任意一种或多种的混合;所
...【技术特征摘要】
1.一种高致密高热导氮化硅陶瓷的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述氮化硅、氧化镁、氧化钇的平均粒径为0.1-1.0μm。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述光敏树脂为hea、hdda中的任意一种或多种的混合。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述分散剂为cpd03、cpd07、cpd08中的任意一种或多种的混合。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述引发剂为cpi-01、cpi-02、cpi-03中的任意一种或多种的混合;所述消泡剂为sn485、byk-066n、...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈涞鸣,赵喆,胡殿钦,张宇鹏,焦慧超,史明肖,
申请(专利权)人:江淮前沿技术协同创新中心,
类型:发明
国别省市:
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