【技术实现步骤摘要】
本技术涉及衍射光学，具体而言，涉及一种衍射光波导。
技术介绍
1、目前，衍射光波导通常采用表面浮雕光栅实现光线衍射，在表面浮雕光栅的衍射光波导的加工过程中，通常采用两种方式完成关键光栅的加工，例如压印工艺和刻蚀工艺，这两种工艺都是分别完成整个衍射光波导的加工的。压印工艺可以实现倾斜光栅和闪耀光栅的加工，但是由于工艺和材料的限制，使得光栅的折射率无法达到大于2.0，限制了产品的光学性能。刻蚀工艺虽然能够实现折射率大于2.0的光栅的加工，但是由于工艺限制，无法制作出倾斜光栅和闪耀光栅的大规模批量加工，同样限制了产品的光学性能。
2、也就是说，现有技术中的衍射光波导存在光学性能提升困难的问题。
技术实现思路
1、本技术的主要目的在于提供一种衍射光波导，以解决现有技术中的衍射光波导存在光学性能提升困难的问题。
2、为了实现上述目的，根据本技术的一个方面，提供了一种衍射光波导，包括：基底；耦出刻蚀光栅区，耦出刻蚀光栅区设置在基底上；压印层，压印层和耦出刻蚀光栅区位于基底的同一...
【技术保护点】
1.一种衍射光波导，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的衍射光波导，其特征在于，所述压印层沿平行于所述基底(10)的方向包括第一压印层(31)和第二压印层(32)，所述第一压印层(31)远离所述基底(10)的一侧表面具有所述耦入压印光栅区(41)，所述第二压印层(32)填充包覆所述耦出刻蚀光栅区(22)，所述第一压印层(31)和所述第二压印层(32)的厚度相同或不同。
3.根据权利要求1所述的衍射光波导，其特征在于，所述耦入压印光栅区(41)在所述基底(10)上的投影与所述耦出刻蚀光栅区(22)在所述基底(10)上的投影间隔设置，所述耦...
【技术特征摘要】
1.一种衍射光波导，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的衍射光波导，其特征在于，所述压印层沿平行于所述基底(10)的方向包括第一压印层(31)和第二压印层(32)，所述第一压印层(31)远离所述基底(10)的一侧表面具有所述耦入压印光栅区(41)，所述第二压印层(32)填充包覆所述耦出刻蚀光栅区(22)，所述第一压印层(31)和所述第二压印层(32)的厚度相同或不同。
3.根据权利要求1所述的衍射光波导，其特征在于，所述耦入压印光栅区(41)在所述基底(10)上的投影与所述耦出刻蚀光栅区(22)在所述基底(10)上的投影间隔设置，所述耦出刻蚀光栅区(22)的光栅垂直于所述基底(10)设置，所述耦入压印光栅区(41)的光栅倾斜于所述基底(10)设置。
4.根据权利要求1所述的衍射光波导，其特征在于，所述耦入压印光栅区(41)到所述基底(10)的距离大于所述耦出刻蚀光栅区(22)的高度。
5.根据权利要求2所述的衍射光波导，其特征在于，
6.根据权利要求1所述的衍射光波导，其特征在于，所述压印层远离所述基底(10)的一侧表面还具有耦出压印光栅区(43)，所述耦出压印光栅区(43)与...
【专利技术属性】
技术研发人员：沈健，张学颖，郭丰，
申请(专利权)人：舜宇奥来微纳光学上海有限公司，
类型：新型
国别省市：
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