【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光伏材料镀膜，特别涉及一种镀膜设备。
技术介绍
1、目前，光伏材料的镀膜工艺，如ald(原子层沉积)工艺、peald(等离子增强原子层沉积)工艺等，均需要使用镀膜设备在真空环境下实现。镀膜设备中常使用匀流板实现气体匀流，但通电后的匀流板可能会向真空腔体内的其他区域放电，导致产生辉光，不仅损耗电源功率，还会造成粉尘的增加。
技术实现思路
1、鉴于以上内容，有必要提供一种镀膜设备，可以避免产生辉光，减少电源功率的损耗和产生的粉尘。
2、一种镀膜设备，包括：真空腔体，接地设置；匀流板，设置于真空腔体内；载板与匀流板间隔设置于真空腔体内，载板与匀流板之间形成反应区域，反应区域用于容置物料以执行工艺；电极杆，穿设于真空腔体，电极杆的一端与匀流板电连接，电极杆的另一端用于与电源电连接；屏蔽罩，设置于真空腔体内并罩设于匀流板，屏蔽罩与匀流板之间留有放电间隙，屏蔽罩与匀流板之间绝缘设置；屏蔽接地组件，连接于屏蔽罩，用于使屏蔽罩接地设置。
3、通过本申请提供的镀膜设备，在实...
【技术保护点】
1.一种镀膜设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述屏蔽接地组件包括导电座、导电带和固定件；其中，所述导电座固定并电连接于所述屏蔽罩；所述导电带一端通过所述固定件可拆卸连接于所述导电座，并与所述导电座电连接，所述导电带另一端与所述真空腔体电连接；
3.根据权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，所述导电座固定设置有固定螺母；所述固定件包括固定螺栓，所述固定螺栓螺纹连接于所述固定螺母，并配合所述导电座夹紧所述导电带。
4.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述真空腔体内设置有固定柱，所述固定柱...
【技术特征摘要】
1.一种镀膜设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述屏蔽接地组件包括导电座、导电带和固定件；其中，所述导电座固定并电连接于所述屏蔽罩；所述导电带一端通过所述固定件可拆卸连接于所述导电座，并与所述导电座电连接，所述导电带另一端与所述真空腔体电连接；
3.根据权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，所述导电座固定设置有固定螺母；所述固定件包括固定螺栓，所述固定螺栓螺纹连接于所述固定螺母，并配合所述导电座夹紧所述导电带。
4.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述真空腔体内设置有固定柱，所述固定柱沿竖直方向延伸，所述固定柱的上端固定连接于所述真空腔体，固定柱的下端穿设于所述屏蔽罩并与所述匀流板固定连接，所述固定柱下端套设有第一绝缘环，所述第一绝缘环的下端面与所述屏蔽罩相抵接。
5.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述屏蔽罩为金属材质。
6.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述放电间隙为mm-mm。
【专利技术属性】
技术研发人员：祁文杰，卢秋霞，林佳继，
申请(专利权)人：拉普拉斯西安科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：
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