一种高性能X射线激发稀土余辉材料、制备方法及其在成像领域上的应用技术

本发明专利技术涉及稀土余辉材料技术领域，公开了一种高性能X射线激发稀土余辉材料、制备方法及其在成像领域上的应用，其化学组成通式为：NaLu<subgt;z</subgt;Y<subgt;0.7</subgt;F<subgt;4</subgt;@NaLu<subgt;0.8</subgt;Bi<subgt;x</subgt;F<subgt;4</subgt;：Ba<subgt;Y</subgt;/Dy<subgt;m</subgt;@NaLu<subgt;z</subgt;Y<subgt;0.7</subgt;F<subgt;4</subgt;。该高性能X射线激发稀土余辉材料共包括内核、中间层、外壳层三层结构，内核、外壳层与中间层具有不同的基质组分，使壳层界面处形成了晶格错配。本发明专利技术能够在X射线辐照后产生很强的余辉发光，余辉性能强，余辉持续时间长，并可用于X射线成像领域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及稀土余辉材料，尤其涉及一种高性能x射线激发稀土余辉材料、制备方法及其在成像领域上的应用。

技术介绍

1、基于传统块状闪烁体的x射线成像技术，难以获得物体内部的三维结构，通常需要高x射线辐射剂量或复杂的仪器设备，通过图像重构来获取三维信息。与传统块状闪烁体相比，开发新型柔性x射线探测器更容易实现三维成像，而x射线激发的余辉材料是一种很好的选择。研究表明，稀土离子掺杂氟化物具有x射线激发的余辉性能，能够用于制作柔性薄膜，从而实现三维成像。但是其余辉性能需要高辐射剂量来实现，不能满足实际应用的要求，急需探索有效的方法大幅提高余辉性能，进而有效降低辐照剂量，保证使用过程中的安全性。

2、现有技术中也存在一些涉及x射线激发稀土余辉材料相关的研究及应用，

3、（1）如申请号为202011538445.7，名称为基于x射线激发的近红外二区发光长余辉纳米探针、制备方法及其在活体成像分析上的应用的专利技术专利申请，其通过将具有声子能小和发光效率高稀土氟化物纳米晶体与x射线相结合，调控稀土离子掺杂实现近红外二区长余辉发光纳米探针的构建，并本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高性能X射线激发稀土余辉材料，其特征在于，化学组成通式为：

2.根据权利要求1所述的高性能X射线激发稀土余辉材料，其特征在于，所述x=0.2，Y=0.2，z=0.3，m=0.04。

3.根据权利要求2所述的高性能X射线激发稀土余辉材料，其特征在于，共包括内核、中间层、外壳层三层结构，其中内核、外壳层均为NaLu0.3Y0.7F4，中间层为NaLu0.8Bi0.2F4：Ba0.2/Dy0.04，发光中心位于中间层，大量的Dy3+离子位于界面处；

4.根据权利要求3所述的高性能X射线激发稀土余辉材料，其特征在于，中间层中掺杂Bi3+离子，在不改变晶...

【技术特征摘要】

1.一种高性能x射线激发稀土余辉材料，其特征在于，化学组成通式为：

2.根据权利要求1所述的高性能x射线激发稀土余辉材料，其特征在于，所述x=0.2，y=0.2，z=0.3，m=0.04。

3.根据权利要求2所述的高性能x射线激发稀土余辉材料，其特征在于，共包括内核、中间层、外壳层三层结构，其中内核、外壳层均为nalu0.3y0.7f4，中间层为nalu0.8bi0.2f4：ba0.2/dy0.04，发光中心位于中间层，大量的dy3+离子位于界面处；

4.根据权利要求3所述的高性能x射线激发稀土余辉材料，其特征在于，中间层中掺杂bi3+离子，在不改变晶体结构的条件下，增加了x射线吸收系数。

5.根据权利要求4所述的高性能x射线激发稀土...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘天宇，雷磊，娄开成，周谡，邓德刚，徐时清，
申请(专利权)人：中国计量大学，
类型：发明
国别省市：