【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体产业污水处理设备，具体为一种半导体产业污水高效处理装置。
技术介绍
1、在半导体产业中，污水处理设备
专注于处理和净化来自制造过程各个阶段产生的复杂废水，这些废水通常含有高浓度的化学物质、重金属以及有机污染物。为了应对这种挑战，该领域的技术不断进步，涵盖了从预处理到最终排放或回用的全过程。
2、沉淀池在半导体产业污水处理流程中扮演着重要的角色，沉淀池是利用重力沉降作用将密度比水大的悬浮颗粒从水中去除的一种处理构筑物，在半导体废水处理流程中，初次沉淀池通常位于预处理阶段之后，用于去除水中的悬浮固体和部分有机物。这些物质如果直接进入后续处理单元，可能会对生物处理系统造成冲击负荷或影响处理效果。通过沉淀作用，可以有效地将较大颗粒的无机杂质以及一些易于沉淀的有机物分离出来，减轻后续处理单元的负担。
3、现有技术中沉淀池通常使用链式排泥机排出底部沉积杂质，虽然在一定程度上满足了使用需求，但是在实际使用过程中发现，链式排泥机刮板在返程过程中为了不搅动沉淀池内部水流，通常将返程段设置在水面之上，导致链...
【技术保护点】
1.一种半导体产业污水高效处理装置，包括沉淀池(1)，所述沉淀池(1)的一侧固定安装有入液机构(2)，所述沉淀池(1)远离入液机构(2)的一侧固定安装有溢流机构(3)，所述沉淀池(1)的内部固定安装有辅助沉淀机构(4)，所述沉淀池(1)的内部固定安装有刮泥机构(5)，其特征在于：所述沉淀池(1)包括池体(101)，所述池体(101)靠近入液机构(2)的一侧开设有收集槽(102)，所述池体(101)靠近入液机构(2)的一侧固定安装有若干排泥管(103)；
2.根据权利要求1所述的一种半导体产业污水高效处理装置，其特征在于，所述刮板(505)的一侧固定安装有橡
【技术特征摘要】
1.一种半导体产业污水高效处理装置，包括沉淀池(1)，所述沉淀池(1)的一侧固定安装有入液机构(2)，所述沉淀池(1)远离入液机构(2)的一侧固定安装有溢流机构(3)，所述沉淀池(1)的内部固定安装有辅助沉淀机构(4)，所述沉淀池(1)的内部固定安装有刮泥机构(5)，其特征在于：所述沉淀池(1)包括池体(101)，所述池体(101)靠近入液机构(2)的一侧开设有收集槽(102)，所述池体(101)靠近入液机构(2)的一侧固定安装有若干排泥管(103)；
2.根据权利要求1所述的一种半导体产业污水高效处理装置，其特征在于，所述刮板(505)的一侧固定安装有橡胶板(507)。
3.根据权利要求1所述的一种半导体产业污水高效处理装置，其特征在于，所述入液机构(2)包括第一入液腔(201)，所述第一入液腔(201)的横截面呈等腰梯形，所述第一入液腔(201)的上底固定安装有第二入液腔(202)，所述第二入液腔(202)的一侧固定连接有污水入液管(203)，所述第二入液腔(202)远离污水入液管(203)的一侧固定连接有凝絮剂入液管(204)，所述第一入液腔(201)的上底固定安装有第一分流板(205)，所述第一入液腔(201)的下底固定安装有第二分流板(207)，所述第一入液腔(201)的内部固定安装有若干扰流板(206)，若干所述扰流板(206)交错安装在第一入液腔(201)的内部，所述扰流板(206)的横截面为人字形。
4.根据权利要求3所述的一种半导体产业污水高效处理装置，其特征在于，所述池体(101)的内部滑动安装有第一挡板(104)，所述第一挡板(104)设置在第二分流板(207)的一侧，所述第一挡板(104)的横截面为钝角折线形。
5.根据权利要求3所述的一种半导体产业污水高效处理装置，其特征在于，所述池体(101)的内部滑动安装有第二挡板(105)，所述第二挡板(105)设置在第一挡板(104)远离第二分流板(207)的一侧。
6.根据权利要求1所述的一种半导体产业污水高效处理装置，其特征在于，所述溢流机构(3)包括溢流堰(301)，所述溢流堰(301)的一侧固定安装有光透过率传感器(302)，所述溢流堰(301)滑动安装在池体(101)的顶部，所述溢流堰(301)的内部固定安装有第一安装架(303)，...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘爱宝，曹惠忠，刘娜，凌洪吉，
申请(专利权)人：科盛环保科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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