【技术实现步骤摘要】
本申请涉及晶体加工的,具体涉及一种拉晶炉装置及拉晶方法。
技术介绍
1、目前,随着大尺寸单晶硅的发展,磁场在单晶硅生长过程中起到了重要的作用,通过对硅熔体施加磁场,能够实现增大粘滞度的目的,会抑制自然对流,使得晶体生长速率起伏降低,改善晶体的均匀性。
2、在相关技术中,单晶生长过程时,多会保持磁场在某个位置固定不动,把磁场加载到设定值,等结束后再关闭磁场。然而,无论是何种类型的水平磁场,在使用过程中都不能保证磁场整体是呈中心对称的,固定磁场情况下,溶体内部流动不呈中心分布,但是由于磁场分布限制,无法完全消除内部流动不对称性,会导致晶体品质下降。
技术实现思路
1、为了解决上述问题而提出了本申请,根据本申请的一方面,提供了一种拉晶炉装置,包括:炉体,所述炉体中设置有容纳硅熔体的坩埚;磁场部件,所述磁场部件设于所述炉体外部,用于生成穿过所述坩埚及所述硅熔体的水平磁场;驱动件,所述驱动件设于所述炉体外部,所述驱动件用于驱动所述所述磁场部件旋转,使所述水平磁场以所述炉体的竖向轴线为中心
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1.一种拉晶炉装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的拉晶炉装置,其特征在于,还包括磁场底座,所述磁场底座设于所述炉体外部,所述磁场部件设于所述磁场底座上,所述驱动件连接所述磁场底座,以驱动所述磁场底座和所述磁场部件进行旋转。
3.根据权利要求2所述的拉晶炉装置,其特征在于,所述驱动件包括驱动电机,所述拉晶炉装置还包括控制模组,所述控制模组电连接所述驱动电机,用于发送控制信号到所述驱动电机以控制所述磁场部件的旋转速度。
4.根据权利要求1所述的拉晶炉装置,其特征在于,所述坩埚可转动地设于所述炉体内,所述坩埚的竖直中心线和所
...【技术特征摘要】
1.一种拉晶炉装置,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的拉晶炉装置,其特征在于,还包括磁场底座,所述磁场底座设于所述炉体外部,所述磁场部件设于所述磁场底座上,所述驱动件连接所述磁场底座,以驱动所述磁场底座和所述磁场部件进行旋转。
3.根据权利要求2所述的拉晶炉装置,其特征在于,所述驱动件包括驱动电机,所述拉晶炉装置还包括控制模组,所述控制模组电连接所述驱动电机,用于发送控制信号到所述驱动电机以控制所述磁场部件的旋转速度。
4.根据权利要求1所述的拉晶炉装置,其特征在于,所述坩埚可转动地设于所述炉体内,所述坩埚的竖直中心线和所述磁场部件的转动中心线重合,且所述坩埚和所述磁场部件的转动方向相反。
5.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员:赵言,陈水斌,金光勋,
申请(专利权)人:上海新昇半导体科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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