一种多晶金刚石振膜的制备方法技术

本发明专利技术属于金刚石振膜制备领域，公开了一种多晶金刚石振膜的制备方法。包括以下步骤：（1）将脱模剂涂覆或镀在钼台上，所述脱模剂为石墨乳水溶液或者碳膜，石墨乳水溶液中，石墨乳和水的体积比为1：3~10；（2）将钼台置于MPCVD设备的沉积腔内进行金刚石振膜沉积；（3）沉积完成后，降温脱膜。本发明专利技术通过对生长钼台上表面进行预处理，增加过渡层，通过石墨乳或碳膜润滑、均匀的特性，改善金刚石振膜的成型条件，克服了衬底降温过程的破裂和无法脱模的缺点。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于金刚石振膜制备领域，更具体的，涉及一种多晶金刚石振膜的制备方法。

技术介绍

1、金刚石振膜的优点包括高硬度、低质量、超高频响应、低失真、高温稳定性、耐腐蚀性和长寿命等特性，这些特点使其成为高端音频设备中的理想选择，特别是用于高保真度和高性能的音响应用。

2、众所周知，化学气相沉积法（cvd）凭借其诸多优势，成为制备金刚石振膜的主流方法，然而其生产过程中也存在不少问题，具体如下：

3、现有技术制备（cvd法制备金刚石振膜）金刚石振膜时多采用硅片作为生长衬底，生长完成后再将硅片用酸液或碱液溶掉，最终得到金刚石振膜，生产成本高，并且产生污染物，不利于产业化生产。

4、然而，mpcvd技术制备的金刚石振膜，在生长过程中存在边缘效应，导致生长的金刚石振膜厚度不均匀，衬底降温过程的金刚石振膜易破裂、成品率，不利于产业化生产。

技术实现思路

1、针对现有技术中存在的上述问题，本专利技术的目的在于提供一种多晶金刚石振膜的制备方法，该制备方法通过生长钼台上表面进行预处理，改善金本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种多晶金刚石振膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.如权利要求1所述的多晶金刚石振膜的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述石墨乳水溶液涂覆后的成膜厚度为5~10μm；

3.如权利要求1所述的多晶金刚石振膜的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述碳膜的厚度为5~10μm；

4.如权利要求1所述的多晶金刚石振膜的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，钼台使用前先进行清洗、第一次烘干；优选依次用丙酮、酒精、去离子水超声清洗钼台；优选第一次烘干温度为60~100℃；

5.如权利要求1所述的多晶金刚石振膜的制备方法，其特征在于，步骤...

【技术特征摘要】

1.一种多晶金刚石振膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.如权利要求1所述的多晶金刚石振膜的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述石墨乳水溶液涂覆后的成膜厚度为5~10μm；

3.如权利要求1所述的多晶金刚石振膜的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述碳膜的厚度为5~10μm；

4.如权利要求1所述的多晶金刚石振膜的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，钼台使用前先进行清洗、第一次烘干；优选依次用丙酮、酒精、去离子水超声清洗钼台；优选第一次烘干温度为60~100℃；

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【专利技术属性】
技术研发人员：王临喜，周泽华，蒋以晨，劳逸张宁，请求不公布姓名，请求不公布姓名，
申请(专利权)人：浙江先导微电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：