【技术实现步骤摘要】
本申请属于半导体集成电路,尤其涉及一种设计版图图形的线段搜索方法、装置、设备、介质及产品。
技术介绍
1、在集成电路制造中,光学临近效应(optical proximity correction,opc)是一项重要技术,其主要用于解决版图变形问题与版图偏差问题。而在opc中,设计规则检查(design rule check,drc)又是十分重要的一环,经常需要通过drc选取设计版图中的特殊线段进行进一步处理。
2、现有方法中,以需要选取的特殊线段所拥有的线段属性作为筛选条件,从而在设计版图中找到对应的线段。
3、然而,在设计版图的版图图形中,往往存在多条线段属性相同的线段,从而导致无法精准定位到需要选取的特殊线段,线段搜索的准确性较低。
技术实现思路
1、本申请实施例提供了一种设计版图图形的线段搜索方法、装置、设备、介质及产品,能够提高线段搜索的准确性。
2、本申请实施例的一方面,提供一种设计版图图形的线段搜索方法,包括:
3、获取待搜索线段
...【技术保护点】
1.一种设计版图图形的线段搜索方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述场景属性参数包括间隔层级参数以及场景线段参数中的至少一种;
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述在各所述候选线段中,搜索所述场景描述信息与所述场景属性参数相匹配的目标线段,包括:
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述在各所述场景描述信息对应的所述候选线段所在的场景中,分别搜索与所述间隔层级参数相匹配的第一场景线段,包括:
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一线段参数包括线宽与线间距中的至
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【技术特征摘要】
1.一种设计版图图形的线段搜索方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述场景属性参数包括间隔层级参数以及场景线段参数中的至少一种;
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述在各所述候选线段中,搜索所述场景描述信息与所述场景属性参数相匹配的目标线段,包括:
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述在各所述场景描述信息对应的所述候选线段所在的场景中,分别搜索与所述间隔层级参数相匹配的第一场景线段,包括:
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一线段参数包括线宽与线间距中的至少一种。
6.根据权利要求1-5任意一项所述的方法,其特征在于,所述在设计版图...
【专利技术属性】
技术研发人员:黄浩鑫,
申请(专利权)人:深圳晶源信息技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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