一种高硬度耐磨反射膜制造技术

一种高硬度耐磨反射膜，包括反射基材，还包括设于所述反射基材上的硬化涂层、设于所述硬化涂层上的低折射率涂层，所述硬化涂层的厚度为3~5微米，所述低折射率涂层的厚度为80~120纳米；硬化胶水由如下组分组成：光敏单体、预聚物、紫外光引发剂、紫外光交联剂、溶剂；硬化涂层的涂覆方法为：将硬化胶水通过狭缝或微凹辊涂布在反射基材上，然后经过热干燥、UV固化形成硬化膜；低折射率涂层的涂覆方法为：涂布低折射率UV胶水，然后经过热干燥、UV固化形成抗反射膜。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种反射膜。

技术介绍

1、随着显示技术的飞速发展，越来越多的显示屏幕数码产品融入到人们生活中，其中智能手机、平板等数码产品在我们学习和工作中发挥着越来越重要的作用，随着显示系统的更新迭代，对反射膜的光学性能和理化性能要求也越来越高，迫切需要研制硬度高且强耐磨性的反射膜。

技术实现思路

1、为了克服现有技术中反射膜的不足，本专利技术提供一种高硬度耐磨反射膜。

2、本专利技术解决其技术问题的技术方案是：一种高硬度耐磨反射膜，包括反射基材，还包括设于所述反射基材上的硬化涂层、设于所述硬化涂层上的低折射率涂层，所述硬化涂层的厚度为3~5微米，所述低折射率涂层的厚度为80~120纳米；

3、硬化胶水由如下组分按照摩尔份数组成：

4、光敏单体 40-60份

5、预聚物 30-50份

6、紫外光引发剂 5-10份

7、紫外光交联剂 5-10份

8、溶剂 1-5份

9、硬化涂层的涂覆方法为：p>

10、将硬本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种高硬度耐磨反射膜，包括反射基材，其特征在于：还包括设于所述反射基材上的硬化涂层、设于所述硬化涂层上的低折射率涂层，所述硬化涂层的厚度为3~5微米，所述低折射率涂层的厚度为80~120纳米；

2.如权利要求1所述的高硬度耐磨反射膜，其特征在于：涂覆所述的硬化涂层时，热干燥的温度为105～120℃，干燥时间为1～3分钟；UV固化采用波长范围介于315～400nm之间的紫外光进行光照射处理，光照时间1～5min。

3.如权利要求1所述的高硬度耐磨反射膜，其特征在于：涂覆所述的低折射率涂层时，热干燥的温度为105～120℃，干燥时间为1～3分钟；UV固化采用波长范...

【技术特征摘要】

1.一种高硬度耐磨反射膜，包括反射基材，其特征在于：还包括设于所述反射基材上的硬化涂层、设于所述硬化涂层上的低折射率涂层，所述硬化涂层的厚度为3~5微米，所述低折射率涂层的厚度为80~120纳米；

2.如权利要求1所述的高硬度耐磨反射膜，其特征在于：涂覆所述的硬化涂层时，热干燥的温度为105～120℃，干燥时间为1～3分钟；uv固化采用波长范围介于315...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗培栋，余鑫杰，
申请(专利权)人：宁波东旭成新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：