一种含硫低聚物及其应用和光学材料组合物制造技术

本发明专利技术属于光学材料技术领域，具体涉及一种含硫低聚物及其应用和光学材料组合物。本发明专利技术以二巯基化合物或其与末端含有不饱和基团的单体反应，采用巯基与双键之间的点击化学反应得到高折射的低聚物，反应结束后主链上会保留S元素，最终得到的低聚物中的S元素含量很高，使得折射率得到了很大的提升。并且，含有不饱和基团的单体含有烷基链，增加低聚物的柔性，因此得到的光学树脂具有很好的流动性以及力学性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光学材料，具体涉及一种含硫低聚物及其应用和光学材料组合物。

技术介绍

1、目前，高性能光学材料是实现先进光学器件高性能化、集成化、轻量化的基石，其在电子通信、汽车船舶、医疗器械、航空航天等领域有着广泛而重要的应用。高透明度和高折射率的光学材料更是先进光学器件的关键材料。传统有机光学材料如聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等的折射率仅有1.49-1.59无法满足先进光学器件的光学性能要求。

2、根据lorentz-lorenz方程，通过引人高度可极化的磷原子、硫原子、硒原子等原子或基团可有效增加有机光学材料的折射率。材料折射率的提高，往往伴随着色散的增加(即阿贝数的下降)，这会导致成像质量下降。高效地引人高摩尔折射率的硫原子及其基团已成为制备具有平衡折射率和阿贝数的光学材料的最有效方法。

技术实现思路

1、为解决现有技术的不足，本专利技术提供了一种含硫低聚物及其应用和光学材料组合物。

2、本专利技术所提供的技术方案如下：

3、一种含硫低聚物，由一种或多种具有式本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种含硫低聚物，其特征在于，由任意一种或多种具有式1所示结构式的化合物共聚得到，或者，由任意一种具有式1所示结构式的化合物与具有烯属不饱和基团化合物共聚得到；

2.根据权利要求1所述的含硫低聚物，其特征在于，其具有式3所示结构式：

3.根据权利要求2所述的含硫低聚物，其特征在于：所述具有3至10个碳原子的环烷基选自具有5至8个碳原子的饱和或不饱和环烷基。

4.根据权利要求3所述的含硫低聚物，其特征在于：所述具有5至8个碳原子的饱和或不饱和环烷基至少具有一个S。

5.根据权利要求3所述的含硫低聚物，其特征在于：所述具有3至10个碳原子的环...

【技术特征摘要】

1.一种含硫低聚物，其特征在于，由任意一种或多种具有式1所示结构式的化合物共聚得到，或者，由任意一种具有式1所示结构式的化合物与具有烯属不饱和基团化合物共聚得到；

2.根据权利要求1所述的含硫低聚物，其特征在于，其具有式3所示结构式：

3.根据权利要求2所述的含硫低聚物，其特征在于：所述具有3至10个碳原子的环烷基选自具有5至8个碳原子的饱和或不饱和环烷基。

4.根据权利要求3所述的含硫低聚物，其特征在于：所述具有5至8个碳原子的饱和或不饱和环烷基至少具有一个s。

5.根据权利要求3所述的含硫低聚物，其特征在于：所述具有3...

【专利技术属性】
技术研发人员：穆广园，金江江，龚文亮，高德稳，
申请(专利权)人：武汉尚赛光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：