【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于材料，具体涉及一种感光树脂、光固化组合物及光固化组合物的应用。
技术介绍
1、光刻技术是指利用光刻材料(特指光刻胶)在可见光、紫外线、电子束等作用下的化学敏感性，通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程，将设计在掩膜版上的图形转移到衬底上的图形微细加工技术。光刻技术是现代半导体、微电子、信息产业的基础，在平板显示、发光二极管、先进封装、磁头及精密传感器等泛半导体行业也有着广泛的应用。光刻胶是光刻技术中形成图案的核心关键。光刻胶，又称光致抗蚀剂，这类材料具有光(包括可见光、紫外线、电子束等)化学敏感性，受光或其它辐射后发生化学反应，形成溶解度差异的感光材料。
2、光刻胶主要由溶剂、成膜树脂、光引发剂、添加剂等几部分组成。树脂是光刻胶组分中占比最大的成分之一，其性能对光刻胶的整体表现起着决定性作用。现有光刻胶树脂在显影过程中容易发生溶胀现象，导致图案的边缘变得不清晰，线宽控制出现偏差，甚至出现图案变形或脱落的现象。光刻胶的性能直接决定了显示面板的分辨率、色彩还原度及图像精度，随着新型显示技术对屏幕分辨率的要求越来越高，现有的...
【技术保护点】
1.一种感光树脂，其特征在于：至少由含有环氧基的烯烃类不饱和化合物、不饱和羧酸以及光固化单体聚合而成，其中，所述光固化单体具有式一所示结构：
2.根据权利要求1所述的感光树脂，其特征在于，所述闭链烃中：
3.根据权利要求2所述的感光树脂，其特征在于：
4.根据权利要求1所述的感光树脂，其特征在于：所述闭链烃具有2-5个多元环。
5.根据权利要求1所述的感光树脂，其特征在于：所述闭链烃还含有至少一个可以与环氧基、羧基或马来酰亚胺基团反应的反应性取代基团。
6.根据权利要求1所述的感光树脂，其特征在于：所述含有环...
【技术特征摘要】
1.一种感光树脂，其特征在于：至少由含有环氧基的烯烃类不饱和化合物、不饱和羧酸以及光固化单体聚合而成，其中，所述光固化单体具有式一所示结构：
2.根据权利要求1所述的感光树脂，其特征在于，所述闭链烃中：
3.根据权利要求2所述的感光树脂，其特征在于：
4.根据权利要求1所述的感光树脂，其特征在于：所述闭链烃具有2-5个多元环。
5.根据权利要求1所述的感光树脂，其特征在于：所述闭链烃还含有至少一个可以与环氧基、羧基或马来酰亚胺基团反应的反应性取代基团。
6.根据权利要求1所述的感光树脂，...
【专利技术属性】
技术研发人员：穆广园，龚文亮，金江江，张炎，
申请(专利权)人：武汉尚赛光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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