清洁基站及清洁设备制造技术

本技术提供了一种清洁基站及清洁设备，所述清洁基站包括：清水箱，所述清水箱设有溢流口；污水箱，所述污水箱设有至少一个喷淋口，所述喷淋口朝向所述污水箱的内壁；管道，所述管道分别与所述溢流口和所述喷淋口相连通。本技术的清洁基站，能够自动对污水箱内壁上残留污渍进行清理，无需用户手动清理，当用户通过供水组件向清水箱内注入清水时，清水能够沿着溢流口和管道流向污水箱的喷淋孔，对污水箱的内壁上的残留污渍进行清理，而无需用户手动清理污渍，降低了用户的工作量，提升了用户的使用体验。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及清洁设备，具体地，涉及一种清洁基站及清洁设备。

技术介绍

1、本部分提供的仅仅是与本公开相关的背景信息，其并不必然是现有技术。

2、目前，清洁设备在对抹布进行清洗后，污水被暂存在污水箱内，最终通过污水箱排向外部环境中，在长期使用过程中，污水箱的内壁上会残留一定的污渍，当污渍累积严重时，还会造成管路堵塞，目前普遍采用的处理方法是，需要用户手动清理污水箱内的污渍，增加了用户的工作量，降低了用户的使用体验。

技术实现思路

1、本技术的目的是至少解决如何对清洁设备的污水箱的内壁上残留污渍进行清理的技术问题。该目的是通过以下技术方案实现的：

2、本技术的第一方面提供了一种清洁基站，所述清洁基站包括：

3、清水箱，所述清水箱设有溢流口；

4、污水箱，所述污水箱设有至少一个喷淋口，所述喷淋口朝向所述污水箱的内壁；

5、管道，所述管道分别与所述溢流口和所述喷淋口相连通。

6、本技术的清洁基站，能够自动对污水箱内壁上残留污渍进行清理，无需用户手动本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种清洁基站，其特征在于，所述清洁基站包括：

2.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述溢流口设于所述清水箱的顶部，所述喷淋口设于所述污水箱的顶部。

3.根据权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，所述清水箱和所述污水箱为分体式，或，所述清水箱和所述污水箱一体成型。

4.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清水箱还设有清水进口；

5.根据权利要求4所述的清洁基站，其特征在于，所述清洁基站还包括水位检测件和控制装置，所述水位检测件设于所述清水箱内，所述控制装置分别与所述水位检测件和所述供水组件电相连。</p>

6.根据...

【技术特征摘要】

1.一种清洁基站，其特征在于，所述清洁基站包括：

2.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述溢流口设于所述清水箱的顶部，所述喷淋口设于所述污水箱的顶部。

3.根据权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，所述清水箱和所述污水箱为分体式，或，所述清水箱和所述污水箱一体成型。

4.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述清水箱还设有清水进口；

5.根据权利要求4所述的清洁基站，其特征在于，所述清洁基站还包括水位检测件和控制装置，所述水位检测件设于所述清水箱内，所述控制装置分别与所述水位检测件和所述供水组件电相连。

6.根据权利要求5所述的清洁基站，其特征在于，所述清洁基站还包括信号屏蔽单元，所述信号屏蔽单元设于所述清洁基站，与所述水位检测件靠近设置或连接于所述水位检测件，所述信号屏蔽单元用于控制所述控制装置与所述水位检测件的信...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱小刚，郑庆辉，张猛，蒋育江，孙涛，
申请(专利权)人：美智纵横科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：