【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及散热片蚀刻制备,具体涉及一种金属散热片用蚀刻组合物及其制备方法。
技术介绍
1、随着电子技术和通讯技术的不断发展,对电子设备中散热器的散热效率的要求越来越高。提高散热器的散热效率的主要途径包括提高散热片的翅片效率,优化散热器的结构以提高流动换热系数等。其中,金属散热片(翅片)在各类散热器中广泛使用,而散热片的散发热量与表面积成正比,因而行业内使用多种不同的工艺增加散热片的表面积,以提高散热片的散热效率。
2、当前,最常用增加散热片表面积的方法为蚀刻微结构技术,通过蚀刻工艺增加金属散热片的表面积以获得足够的蒸汽空间,由此提高散热器的换热效率。在铜或者铜合金蚀刻过程中的主要蚀刻原理是蚀刻液与金属铜之间发生氧化还原化学反应,金属cu失去电子变为cu2+进入到蚀刻液中,对应的化学反应方程式表示为:2cu-2e→cu2+。
3、然而金属散热片在蚀刻过程中,由于湿法蚀刻具有各向异性的特点,蚀刻工艺难以控制,非常容易出现蚀刻穿孔缺陷和变形问题,特别是蚀刻液在金属片表面润湿效果不佳,蚀刻液还容易对感光胶与金属材料的
...【技术保护点】
1.一种星形结构表面活性剂,其特征在于,所述星形结构表面活性剂包括核心A与线形侧链;其中,核心A为异氰酸酯多聚体,线形侧链包括聚氧乙烯链段与直链烷基链段,线形侧链依次连接到核心A上,线形侧链数≥3,a=4~20,b=4~30;
2.根据权利要求1所述的星形结构表面活性剂,其特征在于,连接核心A的线形侧链数为3,对应的星形结构表面活性剂的结构为:
3.权利要求1-2任一项所述的星形结构表面活性剂的制备方法,其特征在于,制备方法包括:将烷基聚氧乙烯醇与异氰酸酯多聚体进行反应得到;
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,异氰酸酯多
...【技术特征摘要】
1.一种星形结构表面活性剂,其特征在于,所述星形结构表面活性剂包括核心a与线形侧链;其中,核心a为异氰酸酯多聚体,线形侧链包括聚氧乙烯链段与直链烷基链段,线形侧链依次连接到核心a上,线形侧链数≥3,a=4~20,b=4~30;
2.根据权利要求1所述的星形结构表面活性剂,其特征在于,连接核心a的线形侧链数为3,对应的星形结构表面活性剂的结构为:
3.权利要求1-2任一项所述的星形结构表面活性剂的制备方法,其特征在于,制备方法包括:将烷基聚氧乙烯醇与异氰酸酯多聚体进行反应得到;
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,异氰酸酯多聚体中的异氰酸基(-nco)与烷基聚氧乙烯醇中的羟基(-oh)摩尔比为1:(1.0~1.2);优选,异氰酸酯多聚体中的异氰酸基(-nco)与烷基聚氧乙烯醇中的羟基(-oh)摩尔比为1:(1.0~1.05)。
5.一种蚀刻组合物,其...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴玉涛,熊道安,张卫,
申请(专利权)人:科峻成精密科技东莞有限公司,
类型:发明
国别省市:
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