【技术实现步骤摘要】
本技术涉及磁控溅射设备，具体为一种冷却板及靶材冷却装置。
技术介绍
1、磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁控溅射的靶材在热处理过程后需要通过冷却装置进行冷却及清洗，以去除靶材表面的污渍便于进行下一步加工。
2、如申请号为cn201921486815.x的技术公开了一种靶材冷却装置。该技术将靶材放置于水平置物板上，通过竖直挡板将单个靶材进行隔开，然后启动水泵将蓄水腔内的清洗液抽向水平喷淋管，并最终将清洗液通过出水孔冲向位于水平置物板上的靶材上，实现对靶材进行清洗，水平置物板上的清洗液经第二漏水孔逐级下漏，实现对底层水平置物板上的靶材进行清洗及冷却，清洗液最终由第一漏水孔回流至蓄水腔内。但是对于靶材顶底两面的冷却强度不够均匀，冷却效率不高。
3、于是，有鉴于此，针对现有的结构及缺失予以研究改良，提出一种冷却板及靶材冷却装置。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一...
【技术保护点】
1.一种靶材冷却装置，包括箱体(1)和过滤网板(7)，其特征在于，所述箱体(1)的顶部中端安装有伺服电机(2)，且伺服电机(2)的输出端贯穿箱体(1)顶部连接有正反牙丝杆(3)，所述正反牙丝杆(3)的外部设置有第一丝杆螺母(4)和第二丝杆螺母(5)，且正反牙丝杆(3)的底端连接有传动杆(11)，所述传动杆(11)的外部设置有清洁刷(12)，所述过滤网板(7)设置于清洁刷(12)的上方，且箱体(1)的内侧固定有承载板(8)，所述承载板(8)的开口处贯穿设置有支撑柱(9)。
2.根据权利要求1所述的一种靶材冷却装置，其特征在于，所述过滤网板(7)中部的开口尺寸...
【技术特征摘要】
1.一种靶材冷却装置，包括箱体(1)和过滤网板(7)，其特征在于，所述箱体(1)的顶部中端安装有伺服电机(2)，且伺服电机(2)的输出端贯穿箱体(1)顶部连接有正反牙丝杆(3)，所述正反牙丝杆(3)的外部设置有第一丝杆螺母(4)和第二丝杆螺母(5)，且正反牙丝杆(3)的底端连接有传动杆(11)，所述传动杆(11)的外部设置有清洁刷(12)，所述过滤网板(7)设置于清洁刷(12)的上方，且箱体(1)的内侧固定有承载板(8)，所述承载板(8)的开口处贯穿设置有支撑柱(9)。
2.根据权利要求1所述的一种靶材冷却装置，其特征在于，所述过滤网板(7)中部的开口尺寸与传动杆(11)的外直径相吻合，且箱体(1)和过滤网板(7)固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种靶材冷却装置，其特征在于，所述箱体(1)的左侧下方安装有清洗组件(10)，且清洗组件(10)包括水泵(1001)和水管(1002)，所述水泵(1001)的输出端连接有水管(1002)。
【专利技术属性】
技术研发人员：张炎，陈英豪，兰飞，
申请(专利权)人：苏州普瑞赛光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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