【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及石墨舟清洗,尤其涉及一种石墨舟清洗工艺。
技术介绍
1、等离子体增强化学气象沉积是硅太阳能电池制造工艺中不可缺少的一部分,随着pecvd技术的不断改进,管式pecvd在提高太阳能电池的效率上有了显著提高。而石墨舟清洗效果的好坏,在相当大的程度影响了管式pecvd镀膜的效果。
2、石墨舟清洗过程中,需要将石墨舟放置于酸洗液中浸泡,而浸泡过程中,酸洗液会渗透至石墨舟内部,即便经过后续的清洗,也可能导致石墨舟内壁氢氟酸的残留。而氢氟酸残留在石墨舟表面,长期对石墨舟进行侵蚀,会导致石墨舟上与硅片接触的工艺卡点受到影响。
技术实现思路
1、本专利技术公开一种石墨舟清洗工艺,旨在解决氢氟酸残留在石墨舟表面,长期对石墨舟进行侵蚀,会导致石墨舟上与硅片接触的工艺卡点受到影响的技术问题。
2、为了实现上述目的,本专利技术采用了如下技术方案:
3、一种石墨舟清洗工艺,包括以下具体步骤:
4、s1:石墨舟拆卸:拆卸石墨舟,分离石墨舟部件;
【技术保护点】
1.一种石墨舟清洗工艺,其特征在于,包括以下具体步骤:
2.根据权利要求1所述的一种石墨舟清洗工艺,其特征在于,所述S35中,沸石粉的铺设高度需满足石墨舟高度,使石墨舟完全没入沸石粉中。
3.根据权利要求1所述的一种石墨舟清洗工艺,其特征在于,所述S33中,设定初始温度为70℃。
4.根据权利要求1所述的一种石墨舟清洗工艺,其特征在于,所述S37中,石墨舟放置入沸石粉中的清洗时长控制在3-5分钟。
5.根据权利要求1所述的一种石墨舟清洗工艺,其特征在于,所述S4,冷水洗包括以下具体步骤:
6.根据权利要求5所
...【技术特征摘要】
1.一种石墨舟清洗工艺,其特征在于,包括以下具体步骤:
2.根据权利要求1所述的一种石墨舟清洗工艺,其特征在于,所述s35中,沸石粉的铺设高度需满足石墨舟高度,使石墨舟完全没入沸石粉中。
3.根据权利要求1所述的一种石墨舟清洗工艺,其特征在于,所述s33中,设定初始温度为70℃。
4.根据权利要求1所述的一种石墨舟清洗工艺,其特征在于,所述s37中,石墨舟放置入沸石粉中的清洗时长控制在3-5分钟。
5.根据权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员:郝宝才,曲彦波,杭胜利,
申请(专利权)人:江苏浠吉尔装备科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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