【技术实现步骤摘要】
本申请涉及真空压力测量,具体而言,涉及一种低真空范围内水蒸气制备装置以及压力测量方法。
技术介绍
1、在半导体、光刻机、航空航天等领域,水蒸气是主要污染物,关系到设备的安全生产运行、产品质量把控,需要在真空系统中获得稳定、精确水蒸气的压力。
2、在探测月球南极永久阴影区,陨石坑底水冰资源任务中,需要用月壤水分子分析仪对水含量进行精确测量,一般通过水浴法及控制外部温度获得不同饱和蒸气压对应的水蒸气,或者通过将样品器件浸泡在蒸馏水中后水蒸气挥发的方式获得了室温下饱和状态时的水蒸气,然而这两种方法在用真空泵组抽除杂质气体时容易将液态水抽除殆尽,且所获得的水蒸气压力对温度具有较大的依赖性。
3、同时,水蒸气容易在不同温度、压力条件下发生相变,在引入真空系统后容易发生冷凝和吸附,而吸附量与腔室及其附属管道表面材料性质、表面材料处理方式、温度等因素有关,现有吸附模型难以定性描述水蒸气压力及吸附量之间的准确关系。因此,采用现有手段难以获得低真空压力范围内高纯度稳定压力的水蒸气,如何获得低真空压力范围内精确、稳定压力下的水蒸气成
...【技术保护点】
1.一种低真空范围内水蒸气制备装置,其特征在于,包括水蒸气样品室、金属容器、测量腔、第一电容薄膜规、第二电容薄膜规以及真空泵组,其中:
2.根据权利要求1所述的低真空范围内水蒸气制备装置,其特征在于,所述金属容器内部装有低温冷冻去离子水。
3.根据权利要求2所述的低真空范围内水蒸气制备装置,其特征在于,所述水蒸气样品室为球形或者圆柱体结构。
4.根据权利要求3所述的低真空范围内水蒸气制备装置,其特征在于,所述测量腔为球形结构。
5.根据权利要求4所述的低真空范围内水蒸气制备装置,其特征在于,所述第一电容薄膜规为满量程为1
...【技术特征摘要】
1.一种低真空范围内水蒸气制备装置,其特征在于,包括水蒸气样品室、金属容器、测量腔、第一电容薄膜规、第二电容薄膜规以及真空泵组,其中:
2.根据权利要求1所述的低真空范围内水蒸气制备装置,其特征在于,所述金属容器内部装有低温冷冻去离子水。
3.根据权利要求2所述的低真空范围内水蒸气制备装置,其特征在于,所述水蒸气样品室为球形或者圆柱体结构。
4.根据权利要求3所述的低真空范围内水蒸气制备装置,其特征在于,所述测量腔为球形结构。
5.根据权利要求4所述的低真空范围内水蒸气制备装置,其特征在于,所述第一电容薄膜规为满量程为1 3pa的电容薄膜...
【专利技术属性】
技术研发人员:李得天,宋云见,张虎忠,习振华,李刚,李博文,王绥辉,康伟东,
申请(专利权)人:兰州空间技术物理研究所,
类型:发明
国别省市:
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