【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体加工设备,更具体地说,涉及一种搬运机构及激光加工装置。
技术介绍
1、晶圆激光加工是半导体制造过程中的关键步骤之一,用于在晶圆上切割出单个芯片,为后续的封装和测试提供基础。
2、激光加工设备一般包括料仓机构、搬运机构、清洗涂敷机构清洗机构、加工组件以及下料组件等。其中,料仓机构用于存储待加工料片;搬运机构用于从料仓取料,并将待加工料片转移至清洗涂敷机构,在清洗涂敷机构内完成清洗和涂胶工序。清洗机构料仓机构搬运机构还用于将料片在清洗涂敷机构、加工组件之间进行转移,下料组件用于加工后完成下料。
3、然而,由于料仓机构为多层结构,搬运机构无法通过吸附的方式取料,因此现有技术中的搬运机构通常包括夹取和吸附两个取料部件。通过夹取部件由料仓机构内取出料片,然后通过吸附装置对料片进行吸附,并搬运至清洗涂敷机构。清洗机构料仓机构
4、现有技术中,夹取装置和吸附装置均配置有独立的位移模组,使得夹取装置和吸附装置能够独立运动;但是,也因此使得搬运机构不仅占用较大的空间而且成本也较高。
5、
...【技术保护点】
1.一种搬运机构,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的搬运机构,其特征在于,所述位移模组包括第一方向位移模组(300)和第二方向位移模组(200),所述第二方向位移模组(200)设置于所述第一方向位移模组(300)的输出端,用于带动所述第二方向位移模组沿第一方向往复运动;
3.如权利要求1所述的搬运机构,其特征在于,所述夹取装置(110)包括:
4.如权利要求3所述的搬运机构,其特征在于,所述夹取组件包括:
5.如权利要求4所述的搬运机构,其特征在于,所述夹取组件处于工作位置时,所述第二夹爪(1112)位于所述第一
...【技术特征摘要】
1.一种搬运机构,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的搬运机构,其特征在于,所述位移模组包括第一方向位移模组(300)和第二方向位移模组(200),所述第二方向位移模组(200)设置于所述第一方向位移模组(300)的输出端,用于带动所述第二方向位移模组沿第一方向往复运动;
3.如权利要求1所述的搬运机构,其特征在于,所述夹取装置(110)包括:
4.如权利要求3所述的搬运机构,其特征在于,所述夹取组件包括:
5.如权利要求4所述的搬运机构,其特征在于,所述夹取组件处于工作位置时,所述第二夹爪(1112)位于所述第一夹爪(1111)的上侧;
...
【专利技术属性】
技术研发人员:胡发富,方浩全,
申请(专利权)人:深圳镁伽科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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