外用制剂制造技术

一种外用制剂，其包含由至少９０ｗｔ％的（Ａ）：一种或多种式（Ⅰ）表示的没食子酸衍生物（其中Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］中的两个独立地代表单糖、二糖或寡糖残基）和０．００１ｗｔ％至小于１０ｗｔ％的（Ｂ）：一种或多种式（Ⅰ）表示的没食子酸衍生物（其中Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］中的一个代表单糖、二糖或寡糖残基）组成的没食子酸衍生物，所述百分比以式（Ⅰ）没食子酸衍生物的总含量为基数。在通式中，Ｒ↑［１］代表氢原子、碱金属、碱土金属、铵盐或者具有１－１８个碳原子的烷基或链烯基；而Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］独立地代表氢原子，羟基，Ｃ↓［１－１８］烷氧基，聚氧乙烯基，聚氧丙烯基，或者单糖、二糖或寡糖的残基。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种外用制剂，其特征在于包含９０ｗｔ％或更多的一种或多种其中式（Ⅰ）中的Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］中的两个独立地代表单糖、二糖或寡糖残基的没食子酸衍生物（Ａ）和０．００１ｗｔ％至小于１０ｗｔ％的一种或多种其中Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］中的一个代表单糖、二糖或寡糖残基的没食子酸衍生物（Ｂ），所述没食子酸衍生物选自下式（Ⅰ）　　　　＊＊＊　　（Ⅰ）　　　　其中Ｒ↑［１］代表氢原子、碱金属、碱土金属、铵盐或者具有１－１８个碳原子的烷基或链烯基；而Ｒ↑［２］、Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］独立地代表氢原子，羟基，具有１－１８个碳原子的烷氧基，聚氧乙烯基，聚氧丙烯基，或者单糖、二糖或寡糖的残基，所述含量各自以没食子酸衍生物的总含量为基数。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：横幕敦司，伊藤武利，青野惠，渡边真一，西田勇一，
申请(专利权)人：狮王株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]