【技术实现步骤摘要】
本技术属于清洗设备，具体为一种高精密金属掩模版蚀刻后清洗设备。
技术介绍
1、掩模版(photomask)又称光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等，是集成电路制造过程中的图形转移工具或者母板，也就是半导体芯片的母板，承载着图形信息和工艺技术信息。掩模版的作用是将承载的电路图形通过曝光的方式转移到硅晶圆等基体材料上，从而实现集成电路的批量化生产。掩模版广泛应用于半导体、平板显示、电路板、触控屏等领域。
2、使用掩模版来制备半导体芯片时一般需要将蚀刻液涂覆在掩模版上，掩模版后如果不及时的对蚀刻液进行清洗会对掩模版造成一定的损坏，一旦蚀刻液凝固也会影响后续使用。目前对涂覆有蚀刻液的掩模版进行清洗时，一般是直接对掩模版进行冲洗，采用直接冲洗的方式会导致掩模版的部位边角处冲洗不干净。
3、为此，我们提出一种高精密金属掩模版清洗装置。
技术实现思路
1、针对现有技术的不足，本公开的目的在于提供一种高精密金属掩模版蚀刻后清洗设备。
2、本公开的目的可以通过以下技
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1.一种高精密金属掩模版蚀刻后清洗设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种高精密金属掩模版蚀刻后清洗设备，其特征在于，所述移动组件(6)包括第三螺纹杆(19)、滑杆(20)、第二移动块(21)、第三移动块(22)、连接杆(23)以及第二驱动电机(24)，所述第三螺纹杆(19)安装在第一支撑杆(4)内部的容纳腔内，所述第二驱动电机(24)固定安装在第一支撑杆(4)的侧端，且第二驱动电机(24)的输出轴与第三螺纹杆(19)一端固定连接，所述第二移动块(21)安装在第三螺纹杆(19)侧端，且第二移动块(21)与第三螺纹杆(19)螺纹连接；所述滑杆(...
【技术特征摘要】
1.一种高精密金属掩模版蚀刻后清洗设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的一种高精密金属掩模版蚀刻后清洗设备，其特征在于，所述移动组件(6)包括第三螺纹杆(19)、滑杆(20)、第二移动块(21)、第三移动块(22)、连接杆(23)以及第二驱动电机(24)，所述第三螺纹杆(19)安装在第一支撑杆(4)内部的容纳腔内，所述第二驱动电机(24)固定安装在第一支撑杆(4)的侧端，且第二驱动电机(24)的输出轴与第三螺纹杆(19)一端固定连接，所述第二移动块(21)安装在第三螺纹杆(19)侧端，且第二移动块(21)与第三螺纹杆(19)螺纹连接；所述滑杆(20)安装在第二支撑杆(5)的容纳腔内，所述第三移动块(22)安装在滑杆(20)的侧端，且第三移动块(22)能够在滑杆(20)侧端自由滑动，所述连接杆(23)安装在第二移动块(21)和第三移动块(22)之间，且连接杆(23)的两端分别与第二移动块(21)、第三移动块(22)固定连接；所述液压伸缩杆(7)固定安装在连接杆(23)上。
3.根据权利要求1所述的一种高精密金属掩模版蚀刻后清洗设备，其特...
【专利技术属性】
技术研发人员：郑庆靓，汤茂林，刘贵福，盛冬冬，
申请(专利权)人：拓维光电材料滁州有限公司，
类型：新型
国别省市：
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