【技术实现步骤摘要】
本揭示内容是关于一种成像镜头与成像镜头模块，且特别是一种应用在可携式电子装置上的成像镜头与成像镜头模块。
技术介绍
1、近年来，可携式电子装置发展快速，例如智能电子装置、平板计算机等，已充斥在现代人的生活中，而装载在可携式电子装置上的成像镜头模块及其成像镜头也随之蓬勃发展。但随着科技愈来愈进步，使用者对于成像镜头的品质要求也愈来愈高。因此，发展一种可阻挡杂散光的成像镜头遂成为产业上重要且急欲解决的问题。
技术实现思路
1、本揭示内容提供一种成像镜头、成像镜头模块及电子装置，通过空气间隙与特定表面性质的搭配，有助于阻挡杂散光以避免杂散光反射回光路转折元件或光学元件。
2、依据本揭示内容一实施方式提供一种成像镜头，包含多个透镜元件、一光路转折元件及一片状遮光元件。透镜元件定义一光轴。光路转折元件用于转折光轴，且光路转折元件包含一光学表面，其中成像镜头的成像光线于光学表面发生至少一次全反射。片状遮光元件与光路转折元件对应设置，且片状遮光元件包含一第一表面、一第二表面及一微结构层。第一表面面向光学表面设置。第二表面相对第一表面设置。微结构层至少设置于第一表面，微结构层使第一表面上形成凸起。微结构层与光学表面之间的至少部分区域具有一空气间隙。令微结构层的一表面以iso25178标准进行量测，微结构层每平方毫米中的波峰顶点数为ypd；令微结构层的表面以iso25178标准进行量测，得到一等价直线与一负荷面积率曲线，等价直线的0％至100％对应负荷面积率曲线定义一核心部的高度，负荷面
3、依据前段所述实施方式的成像镜头，令微结构层的表面以iso25178标准进行量测，负荷面积率曲线中区隔核心部与突出波峰部的负荷面积率为ymr1，其可满足下列条件：17％≤ymr1≤25％。
4、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中突出波峰部的平均高度为aph，其可满足下列条件：2.0μm≤aph≤40.1μm。另外，其可满足下列条件：2.0μm≤aph≤21.2μm。另外，其可满足下列条件：5.4μm≤aph≤19.2μm。另外，其可满足下列条件：7.3μm≤aph≤14.5μm。
5、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中令微结构层的表面以iso25178标准进行量测，微结构层大于核心部的高度且大于4μm的波峰顶点数为hpq，其可满足下列条件：2≤hpq≤400。另外，其可满足下列条件：40≤hpq≤210。
6、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中空气间隙的高度为ha，其可满足下列条件：1μm<ha<102μm。
7、依据前段所述实施方式的成像镜头，可还包含一粘性元件，其中粘性元件设置于第一表面与第二表面中至少一者，且粘性元件使微结构层与光学表面之间的至少部分区域形成空气间隙。
8、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中片状遮光元件的厚度为tl，其可满足下列条件：10μm<tl<170μm。
9、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中粘性元件的厚度为ta，其可满足下列条件：3μm<ta<105μm。
10、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中粘性元件整体的厚度差异可小于10μm。
11、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中片状遮光元件可还包含一纳米结构层。纳米结构层设置于微结构层表面，且纳米结构层可包含多个纳米颗粒，其中纳米颗粒堆叠设置，且纳米颗粒的数量朝远离片状遮光元件的方向递减。
12、依据本揭示内容一实施方式提供一种成像镜头，包含多个透镜元件、一光路转折元件及一片状遮光元件。透镜元件定义一光轴。光路转折元件用于转折光轴，且光路转折元件包含一光学表面，其中成像镜头的成像光线于光学表面发生至少一次全反射。片状遮光元件与光路转折元件对应设置，且片状遮光元件包含一第一表面、一第二表面及一微结构层。第一表面面向光学表面设置。第二表面相对第一表面设置。微结构层至少设置于第一表面，且微结构层使第一表面上形成凸起。微结构层与光学表面之间的至少部分区域具有一空气间隙。令微结构层的一表面以iso25178标准进行量测，微结构层每平方毫米中的波峰顶点数为ypd，其满足下列条件：20000(1/mm2)≤ypd≤110000(1/mm2)。令微结构层的表面以iso25178标准进行量测，得到一等价直线与一负荷面积率曲线，等价直线的0％至100％对应负荷面积率曲线定义一核心部的高度，负荷面积率曲线高于核心部的高度的部分为一突出波峰部，突出波峰部的平均高度为aph；令微结构层的表面以iso25178标准进行量测，微结构层大于核心部的高度且大于4μm的波峰顶点数为hpq，下列至少一条件被满足：2.0μm≤aph≤40.1μm；2≤hpq≤400。
13、依据前段所述实施方式的成像镜头，突出波峰部的平均高度为aph，其可满足下列条件：2.0μm≤aph≤21.2μm。
14、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中令微结构层的表面以iso25178标准进行量测，微结构层大于核心部的高度且大于4μm的波峰顶点数为hpq；突出波峰部的平均高度为aph，下列至少一条件被满足：2≤hpq≤400；5.4μm≤aph≤19.2μm。另外，下列至少一条件被满足：5.4μm≤aph≤19.2μm；40≤hpq≤210。
15、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中令微结构层的表面以iso25178标准进行量测，负荷面积率曲线中区隔核心部与突出波峰部的负荷面积率为ymr1，其可满足下列条件：17％≤ymr1≤30％。微结构层大于核心部的高度且大于4μm的波峰顶点数为hpq；突出波峰部的平均高度为aph，下列至少一条件被满足：40≤hpq≤210；7.3μm≤aph≤14.5μm。
16、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中负荷面积率曲线中区隔核心部与突出波峰部的负荷面积率为ymr1；突出波峰部的平均高度为aph；微结构层大于核心部的高度且大于4μm的波峰顶点数为hpq，其同时满足下列条件：17％≤ymr1≤25％；7.3μm≤aph≤14.5μm；以及40≤hpq≤210。
17、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中空气间隙的高度为ha，其可满足下列条件：1μm<ha<102μm。
18、依据前段所述实施方式的成像镜头，可还包含一粘性元件，其中粘性元件设置于第一表面与第二表面中至少一者，且粘性元件使微结构层与光学表面之间的至少部分区域形成空气间隙。
19、依据前段所述实施方式的成像镜头，其中片状遮光元件的厚度为tl，其可满足下列条件：10μm<tl<170μm。
20、依据前段所述实施方式的成像本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种成像镜头，其特征在于，包含：
2.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，令该微结构层的该表面以ISO25178标准进行量测，该负荷面积率曲线中区隔该核心部与该突出波峰部的负荷面积率为Ymr1，其满足下列条件：
3.如权利要求2所述的成像镜头，其特征在于，该突出波峰部的平均高度为Aph，其满足下列条件：
4.如权利要求3所述的成像镜头，其特征在于，该突出波峰部的平均高度为Aph，其满足下列条件：
5.如权利要求4所述的成像镜头，其特征在于，该突出波峰部的平均高度为Aph，其满足下列条件：
6.如权利要求5所述的成像镜头，其特征在于，该突出波峰部的平均高度为Aph，其满足下列条件：
7.如权利要求4所述的成像镜头，其特征在于，令该微结构层的该表面以ISO25178标准进行量测，该微结构层大于该核心部的高度且大于4μm的波峰顶点数为Hpq，其满足下列条件：
8.如权利要求7所述的成像镜头，其特征在于，令该微结构层的该表面以ISO25178标准进行量测，该微结构层大于该核心部的高度且大于4μm的
9.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该空气间隙的高度为Ha，其满足下列条件：
10.如权利要求9所述的成像镜头，其特征在于，还包含：
11.如权利要求9所述的成像镜头，其特征在于，该片状遮光元件的厚度为TL，其满足下列条件：
12.如权利要求10所述的成像镜头，其特征在于，该粘性元件的厚度为TA，其满足下列条件：
13.如权利要求12所述的成像镜头，其特征在于，该粘性元件整体的厚度差异小于10μm。
14.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该片状遮光元件还包含：
15.一种成像镜头，其特征在于，包含：
16.如权利要求15所述的成像镜头，其特征在于，该突出波峰部的平均高度为Aph，其满足下列条件：
17.如权利要求16所述的成像镜头，其特征在于，令该微结构层的该表面以ISO25178标准进行量测，该微结构层大于该核心部的高度且大于4μm的波峰顶点数为Hpq；该突出波峰部的平均高度为Aph，下列至少一条件被满足：
18.如权利要求17所述的成像镜头，其特征在于，该突出波峰部的平均高度为Aph；该微结构层大于该核心部的高度且大于4μm的波峰顶点数为Hpq，下列至少一条件被满足：
19.如权利要求18所述的成像镜头，其特征在于，令该微结构层的该表面以ISO25178标准进行量测，该负荷面积率曲线中区隔该核心部与该突出波峰部的负荷面积率为Ymr1，其满足下列条件：
20.如权利要求19所述的成像镜头，其特征在于，该负荷面积率曲线中区隔该核心部与该突出波峰部的负荷面积率为Ymr1；该突出波峰部的平均高度为Aph；该微结构层大于该核心部的高度且大于4μm的波峰顶点数为Hpq，其同时满足下列条件：
21.如权利要求15所述的成像镜头，其特征在于，该空气间隙的高度为Ha，其满足下列条件：
22.如权利要求21所述的成像镜头，其特征在于，还包含：
23.如权利要求21所述的成像镜头，其特征在于，该片状遮光元件的厚度为TL，其满足下列条件：
24.如权利要求22所述的成像镜头，其特征在于，该粘性元件的厚度为TA，其满足下列条件：
25.如权利要求24所述的成像镜头，其特征在于，该粘性元件整体的厚度差异小于10μm。
26.如权利要求15所述的成像镜头，其特征在于，该片状遮光元件还包含：
27.一种成像镜头，其特征在于，包含：
28.如权利要求27所述的成像镜头，其特征在于，令该微结构层的该表面以ISO25178标准进行量测，该负荷面积率曲线中区隔该核心部与该突出波峰部的负荷面积率为Ymr1，其满足下列条件：
29.如权利要求28所述的成像镜头，其特征在于，该突出波峰部的平均高度为Aph，其满足下列条件：
30.如权利要求29所述的成像镜头，其特征在于，该突出波峰部的平均高度为Aph，其满足下列条件：
31.如权利要求30所述的成像镜头，其特征在于，该突出波峰部的平均高度为Aph，其满足下列条件：
32.如权利要求29所述的成像镜头，其特征在于，令该微结构层的该表面以ISO25178标准进行量测，该微结构层大于该核心部的高度且大于4μm的波峰顶点数为Hpq，其满足下列条件：
33.如权利要求32所述的成像镜头，其特征在于，...
【技术特征摘要】
1.一种成像镜头，其特征在于，包含：
2.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，令该微结构层的该表面以iso25178标准进行量测，该负荷面积率曲线中区隔该核心部与该突出波峰部的负荷面积率为ymr1，其满足下列条件：
3.如权利要求2所述的成像镜头，其特征在于，该突出波峰部的平均高度为aph，其满足下列条件：
4.如权利要求3所述的成像镜头，其特征在于，该突出波峰部的平均高度为aph，其满足下列条件：
5.如权利要求4所述的成像镜头，其特征在于，该突出波峰部的平均高度为aph，其满足下列条件：
6.如权利要求5所述的成像镜头，其特征在于，该突出波峰部的平均高度为aph，其满足下列条件：
7.如权利要求4所述的成像镜头，其特征在于，令该微结构层的该表面以iso25178标准进行量测，该微结构层大于该核心部的高度且大于4μm的波峰顶点数为hpq，其满足下列条件：
8.如权利要求7所述的成像镜头，其特征在于，令该微结构层的该表面以iso25178标准进行量测，该微结构层大于该核心部的高度且大于4μm的波峰顶点数为hpq，其满足下列条件：
9.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该空气间隙的高度为ha，其满足下列条件：
10.如权利要求9所述的成像镜头，其特征在于，还包含：
11.如权利要求9所述的成像镜头，其特征在于，该片状遮光元件的厚度为tl，其满足下列条件：
12.如权利要求10所述的成像镜头，其特征在于，该粘性元件的厚度为ta，其满足下列条件：
13.如权利要求12所述的成像镜头，其特征在于，该粘性元件整体的厚度差异小于10μm。
14.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该片状遮光元件还包含：
15.一种成像镜头，其特征在于，包含：
16.如权利要求15所述的成像镜头，其特征在于，该突出波峰部的平均高度为aph，其满足下列条件：
17.如权利要求16所述的成像镜头，其特征在于，令该微结构层的该表面以iso25178标准进行量测，该微结构层大于该核心部的高度且大于4μm的波峰顶点数为hpq；该突出波峰部的平均高度为aph，下列至少一条件被满足：
18.如权利要求17所述的成像镜头，其特征在于，该突出波峰部的平均高度为aph；该微结构层大于该核心部的高度且大于4μm的波峰顶点数为hpq，下列至少一条件被满足：
19.如权利要求18所述的成像镜头，其特征在于，令该微结构层的该表面以iso25178标准进行量测，该负荷面积率曲线中区隔该核心部与该突出波峰部的负荷面积率为ymr1，其满足下列条件：
20.如权利要求19所述的成像镜头，其特征在于，该负荷面积率曲线中区隔该核心部与该突出波峰部的负荷面积率为ymr1；该突出波峰部的平均高度为aph；该微结构层大于该核心部的高度且大于4μm的波峰顶点数为hpq，其同时满足下列条件：
21.如权利要求15所述的成像镜头，其特征在于，该空气间隙的高度为ha，其满足下列条件：
22.如权利要求21所述的成像镜头，其特征在于，还包含：
23.如权利要求21所述的成像镜头，其特征在于，该片状遮光元件的厚度为tl，其满足下列条件：
24.如权利要求22所述的成像镜头，其特征在于，该粘性元件的厚度为ta，其满足下列条件：
25.如权利要求24所述的成像镜头，其特征在于，该粘性元件整体的厚度差异小于10μm。
26.如权利要求15所述的成像镜头，其特征在于，该片状遮光元件还包含：
27.一种成像镜头，其特征在于，包含：
28.如权利要求27所述的成像镜头，其特征在于，令该微结构层的该表面以iso25178标准进行量测，该负荷面积率曲线中...
【专利技术属性】
技术研发人员：童伟哲，郑至伟，范丞纬，
申请(专利权)人：大立光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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