【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及靶材，尤其涉及一种靶材喷砂清洗后防氧化的方法。
技术介绍
1、靶材作为一种重要的镀膜材料，在集成电路、太阳能、光学器件等领域具有广泛的应用，主要包括溅射镀膜、真空蒸镀、等离子体镀膜等，其中最常用的为溅射镀膜法。
2、靶材组件通常由靶材和背板通过焊接构成，为提高焊接强度，需要对靶材和背板的待焊接面进行提前处理，其中经常采用的方式是喷砂处理，提高其表面粗糙度，然而由于喷砂面的特性，经过清洗处理后的喷砂面上往往会有清洗液残留，且在干燥过程中容易使其发生氧化，影响靶材的表观性能及后续使用，造成靶材产品不良率的提高。
3、cn114714257a公开了一种靶材的喷砂方法，具体公开了喷砂方法包括如下步骤：(1)对靶材的非溅射面进行第一喷砂处理，得到第一喷砂面；(2)第一喷砂面表面覆盖保护层，进行第二喷砂处理，得到第二喷砂面；(3)升温去除第二喷砂面表面的保护层，保持温度进行压缩气体吹扫，得到具有干燥喷砂面的靶材；步骤(2)所述保护层的材质包括铟和/或锡。然而该方法并未涉及到喷砂后如何防止表面氧化的难题。
...【技术保护点】
1.一种靶材喷砂清洗后防氧化的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的靶材喷砂后防氧化的方法，其特征在于，步骤(1)中所述喷砂后靶材的表面粗糙度为2～5μm。
3.根据权利要求1或2所述的靶材喷砂后防氧化的方法，其特征在于，步骤(1)中所述喷砂后靶材的表面砂料包括白玉刚料；
4.根据权利要求1～3任一项所述的靶材喷砂后防氧化的方法，其特征在于，步骤(1)中所述清洗的清洗剂包括异丙醇、水和乙醇；
5.根据权利要求1～4任一项所述的靶材喷砂后防氧化的方法，其特征在于，步骤(1)中所述抽气孔与所述通气...
【技术特征摘要】
1.一种靶材喷砂清洗后防氧化的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的靶材喷砂后防氧化的方法，其特征在于，步骤(1)中所述喷砂后靶材的表面粗糙度为2～5μm。
3.根据权利要求1或2所述的靶材喷砂后防氧化的方法，其特征在于，步骤(1)中所述喷砂后靶材的表面砂料包括白玉刚料；
4.根据权利要求1～3任一项所述的靶材喷砂后防氧化的方法，其特征在于，步骤(1)中所述清洗的清洗剂包括异丙醇、水和乙醇；
5.根据权利要求1～4任一项所述的靶材喷砂后防氧化的方法，其特征在于，步骤(1)中所述抽气孔与所述通气孔设置在所述喷砂后靶材的两侧位置；
6.根据权利要求1～5任一项所述的靶材喷砂后防...
【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，胡全，窦兴贤，王青松，
申请(专利权)人：合肥江丰电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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