一种异质结电池及其制备方法与应用技术

技术编号:44246363 阅读:16 留言:0更新日期:2025-02-11 13:43
本发明专利技术提供了一种异质结电池及其制备方法与应用,属于光伏技术领域,所述制备方法包括:在基体的一侧表面和侧面沉积第一本征非晶层,另一侧表面和侧面依次沉积第二本征非晶层和N型掺杂微晶硅层,在第一本征非晶层的表面以及基体的侧面沉积P型掺杂微晶硅层,P型掺杂微晶硅层在基体的侧面与N型掺杂微晶硅层形成交叠;制备背面TCO膜层和正面TCO膜层;在背面TCO膜层和正面TCO膜层的表面分别制备金属电极;沉积P型掺杂微晶硅层的沉积温度<160℃,且≥130℃。本发明专利技术通过低温沉积P型掺杂微晶硅层,避免异质结电池经过层压后效率下降,组件功率降低的问题,从而有效提高异质结电池的效率、热稳定及组件功率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于光伏,涉及一种异质结电池及其制备方法与应用


技术介绍

1、随着目前对可再生能源的需求不断增加,太阳能光伏电池成为了一种重要的能源选择。太阳能光伏电池中,相对其他晶硅电池,异质结电池由于具有高开路电压、简单的制备工艺、良好的光照稳定性、低温度系数及高转化效率的特点而受到广泛的关注。

2、但是,当异质结电池制备成组件时,需要经过胶膜层压,一般组件层压工艺温度条件在110-150℃之间,层压总时间在10-20min。高的温度和长的层压时间将导致异质结电池效率下降,这是由于热导致微晶掺杂层中h扩散,促使微晶层中有效掺杂结构的改变。与此同时,电池效率下降最终将导致组件功率的降低。

3、基于以上研究,需要提供一种异质结电池的制备方法,所述制备方法能够使异质结电池抵抗热衰减并保证组件功率。


技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种异质结电池及其制备方法与应用,所述制备方法通过低温沉积p型掺杂微晶硅层,避免异质结电池经过层压后效率下降,组件功率降低的问题,从而有效提高异质结电池的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种异质结电池的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种异质结电池的制备方法,其特征在于,所述沉积P型掺杂微晶硅层的沉积温度<160℃,且≥140℃。

3.根据权利要求1或2所述的一种异质结电池的制备方法,其特征在于,在沉积所述P型掺杂微晶硅层之前,先在所述第一本征非晶层的表面和基体的侧面沉积第三本征层,所述第三本征层在基体的侧面位于所述P型掺杂微晶硅层与所述N型掺杂微晶硅层之间。

4.根据权利要求1或2所述的一种异质结电池的制备方法,其特征在于,所述沉积P型掺杂微晶硅层的掺杂剂流量与硅烷流量之比为0.4...

【技术特征摘要】

1.一种异质结电池的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种异质结电池的制备方法,其特征在于,所述沉积p型掺杂微晶硅层的沉积温度<160℃,且≥140℃。

3.根据权利要求1或2所述的一种异质结电池的制备方法,其特征在于,在沉积所述p型掺杂微晶硅层之前,先在所述第一本征非晶层的表面和基体的侧面沉积第三本征层,所述第三本征层在基体的侧面位于所述p型掺杂微晶硅层与所述n型掺杂微晶硅层之间。

4.根据权利要求1或2所述的一种异质结电池的制备方法,其特征在于,所述沉积p型掺杂微晶硅层的掺杂剂流量与硅烷流量之比为0.4%~1.6%;

5.根据权利要求1或2所述的一种异质结电池的制备方法,其特征在于,所述沉积p型掺杂微晶硅层的方法包括pecvd;

6.根据权利要求3所述的一种异质结电池的制备方法,其特征在于,所述沉积第一本征非晶层的方法包括pecvd,沉积温度为18...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡佳军李硕王俊
申请(专利权)人:嘉兴阿特斯技术研究院有限公司
类型:发明
国别省市:

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