本发明专利技术涉及一种有机溶剂及其精制方法，上述有机溶剂的精制方法的特征在于，包括：(a)将有机溶剂供给于蒸馏塔来实施蒸馏的步骤；以及(b)通过与蒸馏塔下端部连接的侧部排出流将一部分含有杂质的有机溶剂排出的步骤，其中，上述(b)步骤的排出中，按照上述(a)步骤中供给于蒸馏塔的有机溶剂的投入流量的0.5～10％的流量排出。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及有机溶剂及其精制方法。
技术介绍
1、半导体工序中用作清洗液等多种用途的工艺液的有机溶剂通过控制杂质的总量来进行高纯度管理，上述杂质的含量增加可能导致基板污染、工序不良、晶圆缺陷等。具体地，如果在有机溶剂中包含上述杂质，则在形成图案时会产生误差，或者会阻碍所蒸镀的薄膜的附着。另外，在热工序时，所残留的有机污染物也可能与硅基板反应而形成碳化硅之类的化合物。由此，可能对半导体电路的电性能造成损伤，最终影响包含该半导体电路的装置的性能稳定性和整体生产率。
2、另外，根据上述有机溶剂的管理条件，所去除的有机杂质也可以再生，其中之一便是丙酮(acetone)。丙酮的生成会降低精制溶剂的纯度，降低清洗力，这又导致工序收率下降，进而在半导体工序中无法发挥令人满意的溶剂功能。
3、韩国公开专利公报第10-2021-0070275号公开了一种在丙烯中使水直接水合来制造异丙醇的异丙醇的制造方法，其包括：对粗异丙醇进行蒸馏的蒸馏工序；利用具有离子交换器的过滤器对通过上述蒸馏工序获得的异丙醇进行过滤的过滤工序。
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【技术保护点】
1.一种有机溶剂的精制方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的有机溶剂的精制方法，所述有机溶剂为醇系有机溶剂。
3.根据权利要求2所述的有机溶剂的精制方法，所述有机溶剂为选自异丙醇、丙醇、丁醇和己醇中的一种以上。
4.根据权利要求1所述的有机溶剂的精制方法，所述杂质为沸点比所述有机溶剂高或与其相同的物质。
5.根据权利要求4所述的有机溶剂的精制方法，所述杂质包含选自正丙醇、2-戊酮、4-甲基-2-戊酮、2-丁醇、乙酸异丙酯、壬醛、癸醛、叔戊醇、二丙酮醇和金属杂质中的一种以上。
6.根据权利要求1所述的有机溶剂的精制方法...
【技术特征摘要】
1.一种有机溶剂的精制方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的有机溶剂的精制方法，所述有机溶剂为醇系有机溶剂。
3.根据权利要求2所述的有机溶剂的精制方法，所述有机溶剂为选自异丙醇、丙醇、丁醇和己醇中的一种以上。
4.根据权利要求1所述的有机溶剂的精制方法，所述杂质为沸点比所述有机溶剂高或与其相同的物质。
5.根据权利要求4所述的有机溶剂的精制方法，所述杂质包含选自正丙醇、2-戊酮、4-甲基-2-戊酮、2-丁醇、乙酸异丙酯、壬醛、癸醛、叔戊醇、二丙酮醇和金属杂质中的一种以上。
6.根据权利要求1所述的有机溶剂的精制方法，所述(b)步骤的排出中，按照所述(a)步骤中供给于蒸馏塔的有机溶剂的投入流量的1.0～10％的流量排出。
7.根据权利要求1所述的有机溶剂的精制方法，所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：金焕珉，徐东锡，李旭，
申请(专利权)人：东友精细化工有限公司，
类型：发明
国别省市：
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