【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体，特别是涉及一种基于聚类的测试图形绘制优化方法、系统及终端。
技术介绍
1、在半导体制造领域，光学邻近效应校正（optical proximity correction, opc）的模型构建依赖于绘制测试图形并收集相应的量测数据。测试图形是为验证和校准光刻模型而设计的，通过绘制这些图形并收集量测数据，可以建立和优化光刻模型。然而，现行的测试图形绘制方法往往只关注关键尺寸（cd）和光刻工艺可实现的最小周期（pitch），这可能导致产生违反设计规范的图形。尽管某些现有工具能够避免绘制违规的测试图形，但它们仍然保留了这些图形的绘制空间和标签，未能有效利用版图面积，从而造成了版图面积的不必要浪费。
技术实现思路
1、鉴于以上所述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种基于聚类的测试图形绘制优化方法、系统及终端，用于解决现有的测试图形绘制方法导致版图面积浪费等技术问题。
2、为实现上述目的及其他相关目的，本专利技术提供一种基于聚类的测试图形绘制优化方法，所述方法包...
【技术保护点】
1.一种基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根据权利要求1中所述的基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述枚举所有测试图形设计参数的组合，并过滤违反设计规则的组合包括：
3.根据权利要求2中所述的基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述设定每个测试图形种类的测试图形设计参数的范围以及步长，枚举每个测试图形种类的所有测试图形设计参数的组合包括：
4.根据权利要求1中所述的基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述基于过滤后剩余的组合获得所述测试图形数量的目标设计参数组合包括：
<...【技术特征摘要】
1.一种基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述方法包括：
2.根据权利要求1中所述的基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述枚举所有测试图形设计参数的组合，并过滤违反设计规则的组合包括：
3.根据权利要求2中所述的基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述设定每个测试图形种类的测试图形设计参数的范围以及步长，枚举每个测试图形种类的所有测试图形设计参数的组合包括：
4.根据权利要求1中所述的基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述基于过滤后剩余的组合获得所述测试图形数量的目标设计参数组合包括：
5.根据权利要求1中所述的基于聚类的测试图形绘制优化方法，其特征在于，所述基于测试图形种类，对各目标设计参数...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄光遥，杨博文，姚军，
申请(专利权)人：华芯程杭州科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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