【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光学元件制作，特别是涉及一种双焦点自修正焦点扫描超透镜的设计方法。
技术介绍
1、多焦点多剖面独立扫描器件具有许多潜在应用，在各个领域都能发挥重要的作用，如工业设计、三维建模与扫描、表面检测与质量控制、光学显微镜成像、虚拟现实与增强现实、半导体行业和医学成像与诊断等。
2、而在实际应用过程中，单一焦点的扫描器件的功能比较受限，且效率低，它们仅能实现单一位置的内窥或者在单一焦点内的捕获。在传统光学元件制作
，要实现多个焦点同时工作的功能，需要更加复杂的设计和加工工艺，如果不能得到有效的结合，还会影响聚焦效果，无法判断焦点的空间位置。
3、因此，亟需提供一种可为工业设计、三维建模与扫描与表面检测等领域提供理论与实际应用基础的双焦点自修正焦点扫描超透镜设计方法。
技术实现思路
1、为了克服现有技术的不足，本专利技术的目的是提供一种双焦点自修正焦点扫描超透镜的设计方法，为工业设计、三维建模与扫描与表面检测等领域提供理论与实际应用基础。
2、为...
【技术保护点】
1.一种双焦点自修正焦点扫描超透镜的设计方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种双焦点自修正焦点扫描超透镜的设计方法，其特征在于，所述确定超透镜的设计参数包括超透镜的工作波长、半径、数值孔径、焦点位置和聚焦焦距。
3.根据权利要求1所述的一种双焦点自修正焦点扫描超透镜的设计方法，其特征在于，所述利用棋盘格策略约化超透镜的设计参数，并通过旋转单层超表面的方法在超透镜中设计独立焦点，包括：
4.根据权利要求3所述的一种双焦点自修正焦点扫描超透镜的设计方法，其特征在于，所述利用棋盘格策略约化超透镜的设计参数，并通过旋...
【技术特征摘要】
1.一种双焦点自修正焦点扫描超透镜的设计方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种双焦点自修正焦点扫描超透镜的设计方法，其特征在于，所述确定超透镜的设计参数包括超透镜的工作波长、半径、数值孔径、焦点位置和聚焦焦距。
3.根据权利要求1所述的一种双焦点自修正焦点扫描超透镜的设计方法，其特征在于，所述利用棋盘格策略约化超透镜的设计参数，并通过旋转单层超表面的方法在超透镜中设计独立焦点，包括：
4.根据权利要求3所述的一种双焦点自修正焦点扫描超透镜的设计方法，其特征在于，所述利用棋盘格策略约化超透镜的设计参数，并通过旋转单层超表面的方法在超透镜中设计独立焦点，还包括：
5...
【专利技术属性】
技术研发人员：肖诗逸，谈明轩，李小桐，蔡晓东，谭湘月，
申请(专利权)人：上海大学，
类型：发明
国别省市：
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