【技术实现步骤摘要】
本技术涉及真空镀膜设备，具体涉及一种插板阀及真空镀膜设备。
技术介绍
1、等离子体增强化学气相沉积法(plasma enhanced chemical vapor deposition，pecvd)真空镀膜设备通过微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在局部形成等离子体，利用等离子体化学活性很强，很容易发生反应的原理，从而在待镀工件上沉积出所需要的薄膜。其中，用于真空镀膜工艺的真空镀膜设备中，插板阀是相邻两个真空腔室之间或单个真空腔室密封必不可少的组成部件，其作用是，当需要对单个真空腔室进行工艺处理时，需要利用插板阀将真空腔室封闭，使真空腔室内的真空环境不被破坏。
2、现有技术中，真空镀膜设备用的插板阀通常包括设有阀腔的阀体，阀体的侧壁设置有与阀腔连通的两个阀口，阀腔内设置有分别与两个阀口一一对应的两个插板，利用液压缸驱动连杆机构带动两个插板同时打开或关闭两个阀口，实现真空腔室的打开或密封。但是，由于液压缸使用成本高，且后期维修保养成本高，导致插板阀生产和维修保养成本高；而且，液压缸直接利用连杆机构带动两个插板运动实现两...
【技术保护点】
1.一种插板阀，用于真空镀膜设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的插板阀，其特征在于，两个所述插板中的一个所述插板贯穿设置有与所述阀腔相连通的通气孔。
3.根据权利要求1所述的插板阀，其特征在于，所述驱动组件还包括：
4.根据权利要求3所述的插板阀，其特征在于，所述驱动组件还包括：
5.根据权利要求1所述的插板阀，其特征在于，两个所述阀口的底部分别设有用于供工件进出所述阀腔的导向轮。
6.根据权利要求1所述的插板阀，其特征在于，沿每个所述插板的长度方向上，每个所述插板的两端位置均对应设置有至少两个
【技术特征摘要】
1.一种插板阀，用于真空镀膜设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的插板阀，其特征在于，两个所述插板中的一个所述插板贯穿设置有与所述阀腔相连通的通气孔。
3.根据权利要求1所述的插板阀，其特征在于，所述驱动组件还包括：
4.根据权利要求3所述的插板阀，其特征在于，所述驱动组件还包括：
5.根据权利要求1所述的插板阀，其特征在于，两个所述阀口的底部分别设有用于供工件进出所述阀腔的导向轮。
6.根据权利要求1所述的插板阀，其特征在于，沿每个所述插板的长度方向上，每个所述插板的两端位置均对应设置有至少两...
【专利技术属性】
技术研发人员：金世成，云洋，苏建华，
申请(专利权)人：深圳奥拦科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：
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