【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于处理真空处理系统的排气的减排系统和方法。
技术介绍
1、真空泵送和减排系统被用于各种和不同的
中,例如半导体制造。通常,在所述系统中,真空泵送设备用于从特定位置中向外泵送气体(例如,来自工业制程的气体),并且减排装置用于消减(例如,破坏或处置)已产生的不期望的物质。
2、减排装置通常包括燃烧器,其构造成接收制程气体,并且通过在燃料与氧气混合物中燃烧该制程气体,而从其移除不期望的物质。
技术实现思路
1、在一个方面,提供了一种用于处理真空处理系统的排气的减排系统。该减排系统包括:入口歧管,该入口歧管包括:单一流体入口(例如,仅单一流体入口),其用于接收来自该真空处理系统的排气流;以及多个流体出口,其耦接到该流体入口;以及多个减排装置,其布置成在使用中接收来自该入口歧管的排气流。该多个减排装置中的每个减排装置被耦接到该入口歧管的相应流体出口。该多个减排装置中的每个减排装置包括等离子体减排装置,其用于产生等离子体,以分解该排气流的组分。
2、该多个
...【技术保护点】
1.一种用于处理真空处理系统的排气的减排系统,所述减排系统包括:
2.根据权利要求1所述的减排系统,其中,所述多个减排装置中的减排装置基本上彼此相同。
3.根据权利要求1或2所述的减排系统,其中,所述多个减排装置中的每个减排装置被构造成在次大气压力下将所述排气流的组分转化成液体可溶组分。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的减排系统,其中,所述入口歧管包括:
5.根据权利要求4所述的减排系统,其中,所述多个出口管在围绕所述中心入口管的周界的相应位置处和沿所述中心入口管的基本上相同的轴向位置处从所述中心入口管径向延伸。
...【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种用于处理真空处理系统的排气的减排系统,所述减排系统包括:
2.根据权利要求1所述的减排系统,其中,所述多个减排装置中的减排装置基本上彼此相同。
3.根据权利要求1或2所述的减排系统,其中,所述多个减排装置中的每个减排装置被构造成在次大气压力下将所述排气流的组分转化成液体可溶组分。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的减排系统,其中,所述入口歧管包括:
5.根据权利要求4所述的减排系统,其中,所述多个出口管在围绕所述中心入口管的周界的相应位置处和沿所述中心入口管的基本上相同的轴向位置处从所述中心入口管径向延伸。
6.根据权利要求4或5所述的减排系统,其中,所述入口歧管的所述出口管基本上彼此相同。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的减排系统,其中,所述入口歧管具有大于或等于2阶的旋转对称性。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的减排系统,还包括多个...
【专利技术属性】
技术研发人员:J·R·迪恩,R·D·皮塔莱,
申请(专利权)人:埃地沃兹有限公司,
类型:发明
国别省市:
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