【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
1、集成电路制造涉及各种详细工艺，包括光刻和蚀刻。随着集成电路特征尺寸减小，集成电路布局也同样缩小。由于光刻和蚀刻中的限制，在半导体晶片上制造集成电路裸片期间可能出现缺陷。例如，这样的制造缺陷可包括断线、相邻线之间的短路、未完全打开的孔、以及其他类似缺陷。并非因裸片间的随机处理变化导致的此类缺陷在本文中称为“晶片热点”。
2、晶片热点可能导致集成电路裸片失效操作，因此必须被校正。一旦已标识出晶片热点，对于有经验的布局工程师来说，传统的解决方案是确定用于消除晶片热点的建议布局修改，然后运行仿真以验证建议布局修改是令人满意的。该过程通常通过几次耗时的反复试验迭代来重复，之后获得没有晶片热点的经修正布局。
3、除了非常耗时之外，这种传统技术要求布局工程师具有大量经验以成功地解决晶片热点问题。因此，经验较少的布局工程师往往无法校正晶片热点。因此，固定晶片热点提出了许多挑战。
技术实现思路
【技术保护点】
1.一种系统，所述系统包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述图像文件包括指定所述先前标识的晶片热点的标签。
3.根据权利要求1所述的系统，其中所述图像文件包括图形设计系统数据文件。
4.根据权利要求1所述的系统，其中所述晶片热点类型类别中的每一者包括相应的类别指示符。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述晶片热点类型类别中的每一者包括所述建议布局修改的对应文本描述。
6.根据权利要求1所述的系统，其中所述机器学习系统包括卷积神经网络。
7.根据权利要求1所述的系统，其中所述机器学习系统包...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种系统，所述系统包括：
2.根据权利要求1所述的系统，其中所述图像文件包括指定所述先前标识的晶片热点的标签。
3.根据权利要求1所述的系统，其中所述图像文件包括图形设计系统数据文件。
4.根据权利要求1所述的系统，其中所述晶片热点类型类别中的每一者包括相应的类别指示符。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述晶片热点类型类别中的每一者包括所述建议布局修改的对应文本描述。
6.根据权利要求1所述的系统，其中所述机器学习系统包括卷积神经网络。
7.根据权利要求1所述的系统，其中所述机器学习系统包括图像到图像翻译预测器。
8.根据权利要求1所述的系统，其中所述输出包括文本。
9.根据权利要求1所述的系统，其中所述输出包括图像。
10.根据权利要求1所述的系统，其中所述机器学习系统包括机器学习模型，所述机器学习模型被训练以将先前标识的晶片热点匹配到n个晶片热点类别中的一者。
11.根据权利要求1所述的系统，所述系统还包括图形用户界面，所述图...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄震哲，L·马苏莫托，王春明，
申请(专利权)人：桑迪士克科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：
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