一种轮式抛光机床及其控制系统技术方案

本发明专利技术涉及光学元件抛光技术领域，具体涉及一种轮式抛光机床及其控制系统，包括安装法兰、支架、打磨轮、抛光带和驱动构件，还包括调节组件；调节组件包括外壳、抵接板、升降架、弹簧、转轴、偏心轮和旋转部件，使用时，当需要对打磨的压力进行调节时，通过旋转部件驱动转轴转动，转轴带动偏心轮转动，偏心轮在旋转时其旋转中心与几何中心不重合，这样使偏心轮驱动抵接板下降，进而带动升降架、打磨轮和抛光带下降，从而改变抛光的压力；当需要减小抛光压力时，旋转部件驱动转轴反向转动，此时抵接板在弹簧作用下上升并抵紧偏心轮，进而带动升降架和打磨轮上升，从而减小对光学元件的抛光压力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学元件抛光，尤其涉及一种轮式抛光机床及其控制系统。

技术介绍

1、光学元件的加工一般经过铣磨成型、粗磨、精磨、抛光等工序，作为加工的最后一道工序，抛光直接决定了元件表面的精度。

2、现有技术cn107283260a公开了一种轮式抛光装置，包括安装法兰，所述安装法兰上安装有支架，所述支架的上部安装有驱动电机，下部安装有长度调节装置，所述长度调节装置远离所述驱动电机的一端安装有可转动的弹性橡胶轮，抛光带的一端和所述驱动电机的输出轴连接，另一端和所述弹性橡胶轮连接。本专利技术提供了一种轮式抛光装置，具有高斯型去除函数，去处特性稳定，去除效率高，该装置采用传统磨削原理，成本低廉，可以广泛运用到光学元件抛光过程中。

3、上述装置通过电机带动弹性橡胶轮转动，进而带动抛光带转动对元件进行抛光，但是不能对橡胶轮的下压力进行调节，需要机床控制装置下降调节下压力，导致调节精度较低。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种轮式抛光机床及其控制系统，解决了现有的一种轮式抛光装置不能对橡本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种轮式抛光机床，包括安装法兰、支架、打磨轮、抛光带和驱动构件，所述支架固定安装在所述安装法兰上，所述驱动构件设置在所述支架上，所述抛光带设置在所述驱动构件上，其特征在于，

2.如权利要求1所述的轮式抛光机床，其特征在于，

3.如权利要求2所述的轮式抛光机床，其特征在于，

4.如权利要求2所述的轮式抛光机床，其特征在于，

5.如权利要求1所述的轮式抛光机床，其特征在于，

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8.一种轮式抛光机床控制系统，其...

【技术特征摘要】

1.一种轮式抛光机床，包括安装法兰、支架、打磨轮、抛光带和驱动构件，所述支架固定安装在所述安装法兰上，所述驱动构件设置在所述支架上，所述抛光带设置在所述驱动构件上，其特征在于，

2.如权利要求1所述的轮式抛光机床，其特征在于，

3.如权利要求2所述的轮式抛光机床，其特征在于，

4.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：李顺萍，
申请(专利权)人：重庆希泽机械设备制造有限公司，
类型：发明
国别省市：