【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于低温共烧陶瓷,具体涉及一种高密度高强度的ltcc生瓷片及其制备方法和应用。
技术介绍
1、低温共烧陶瓷(low temperature cofired ceramic,简称为ltcc)满足了电子元件模块化和集成化的发展趋势,近年来在半导体封装领域应用愈发广泛。而不断小型化和高集成的封装趋势则对ltcc基板的抗弯强度提出了更高的需求。ltcc生瓷片是ltcc基板最基本的功能材料,通常由玻璃粉体、陶瓷粉体、粘结剂、分散剂、增塑剂、溶剂等球磨混合后流延制备。ltcc生瓷片经过叠层、等静压、烧结等工序制备ltcc基板。
2、现有的ltcc基板增强方法主要包括:改变玻璃粉体或陶瓷的组分,提高材料的杨氏模量;引入树状纤维/晶须,利用拔出效应提高基板强度;提高材料致密度及减少孔隙率。然而,前两种方法均会改变ltcc基板组成,在提高强度的同时会对介电常数及介质损坏产生影响。
3、中国专利cn116217254a公开了一种纤维增强型ltcc基板,为了避免因异质填料对基板的关键性能产生不利影响,其选用与ltcc基板同质
...【技术保护点】
1.一种高密度高强度的LTCC生瓷片的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:将原料中堆积相粉末和填充相粉末充分混合后流延成型,所述堆积相粉末与填充相粉末的当量粒径比为1:(0.4-0.8),所述堆积相粉末与填充相粉末的体积比为1:(0.15-0.45)。
2.根据权利要求1所述高密度高强度的LTCC生瓷片的制备方法,其特征在于,所述堆积相粉末与填充相粉末的当量粒径比为1:(0.5-0.6),所述堆积相粉末与填充相粉末的体积比为1:(0.35-0.45)。
3.根据权利要求1所述堆积相粉末粒径分布跨度(D90-D10)/D50在0.7以下,所述填充
...【技术特征摘要】
1.一种高密度高强度的ltcc生瓷片的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:将原料中堆积相粉末和填充相粉末充分混合后流延成型,所述堆积相粉末与填充相粉末的当量粒径比为1:(0.4-0.8),所述堆积相粉末与填充相粉末的体积比为1:(0.15-0.45)。
2.根据权利要求1所述高密度高强度的ltcc生瓷片的制备方法,其特征在于,所述堆积相粉末与填充相粉末的当量粒径比为1:(0.5-0.6),所述堆积相粉末与填充相粉末的体积比为1:(0.35-0.45)。
3.根据权利要求1所述堆积相粉末粒径分布跨度(d90-d10)/d50在0.7以下,所述填充相粉末粒径分布跨度(d90-d10)/d50在0.7以下。
4.根据权利要求1所述高密度高强度的ltcc生瓷片的制备方法,其特征在于,所述堆积相粉末选自氮化铝、氧化铝、堇青石和莫来石中一种或一种以上。
5.根据权利要求1所述高密度高强度的ltcc生瓷片的制备方法,其特征在于,所述填充相粉末为微晶玻璃粉。
6.根据权利要求1所述高密度高强度的ltcc生...
【专利技术属性】
技术研发人员:盛涛,于海超,
申请(专利权)人:强一半导体苏州股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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