一种多腔体化学气相沉积设备制造技术

本技术公开了一种多腔体化学气相沉积设备，包括输送链带、升降进料组件和气相沉积室，若干组升降进料组件与输送链带驱动连接，若干组气相沉积室呈垂直设置在升降进料组件的顶部，升降进料组件包括底板、滑轴、定位板、基台、加工台面、顶杆和滑块，该种多腔体化学气相沉积设备采用多个单独的气相沉积室并列分布，能够避免多种化学反应试剂充斥在同一腔室内造成产品污染，保障产品质量，采用多组升降进料组件配合输送链带对物料进行切换腔室输送，提高切换效率，使物料快速进入下一级反应腔室内，保障产品加工质量，同时气相沉积室内铰接有翻转封闭板，能够配合升降进料组件自动打开和关闭。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及化学气相沉积设备领域，具体是一种多腔体化学气相沉积设备。

技术介绍

1、化学气相沉积设备一般由反应室、加热系统、气体供给系统等组成，化学气相沉积设备可根据具体需求和应用领域的不同，进行定制设计和配置，它广泛应用于半导体、光电子、材料科学等领域，用于制备薄膜材料、涂层、纳米结构等。

2、气相沉积设备应用领域广泛，但其仍然存在一些问题：1)部分传统多腔体化学气相沉积设备通常采用单加工腔体搭配多气体腔室的设计，这种设计会导致加工腔室内存在不同化学材料，容易影响成品质量，造成产品污染；2)部分传统多腔体化学气相沉积设备无法将物料快速切换至下一个腔体内部，转移过程中加工工件温度及腔室温度均存在较大的逸散，转移至下一腔室时无法快速进入下一级反应序列，从而延缓工作效率，甚至影响产品加工质量；因此，针对以上现状，迫切需要开发一种的多腔体化学气相沉积设备，以克服当前实际应用中的不足，满足当前的需求。

技术实现思路

1、本技术的目的在于提供一种多腔体化学气相沉积设备，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。

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【技术保护点】

1.一种多腔体化学气相沉积设备，其特征在于：包括输送链带(1)、升降进料组件(2)和气相沉积室(3)，若干组所述升降进料组件(2)与输送链带(1)驱动连接，若干组所述气相沉积室(3)呈垂直设置在升降进料组件(2)的顶部，所述升降进料组件(2)包括底板(21)、滑轴(22)、定位板(23)、基台(24)、加工台面(25)、顶杆(26)和滑块(27)，四根所述滑轴(22)呈垂直焊接在底板(21)的顶部四角位置，所述基台(24)呈水平安装在滑轴(22)的顶端，所述定位板(23)嵌套设置在滑轴(22)的中间位置，并与所述滑轴(22)滑动连接，所述加工台面(25)呈水平安装在基台(24)的顶部中间...

【技术特征摘要】

1.一种多腔体化学气相沉积设备，其特征在于：包括输送链带(1)、升降进料组件(2)和气相沉积室(3)，若干组所述升降进料组件(2)与输送链带(1)驱动连接，若干组所述气相沉积室(3)呈垂直设置在升降进料组件(2)的顶部，所述升降进料组件(2)包括底板(21)、滑轴(22)、定位板(23)、基台(24)、加工台面(25)、顶杆(26)和滑块(27)，四根所述滑轴(22)呈垂直焊接在底板(21)的顶部四角位置，所述基台(24)呈水平安装在滑轴(22)的顶端，所述定位板(23)嵌套设置在滑轴(22)的中间位置，并与所述滑轴(22)滑动连接，所述加工台面(25)呈水平安装在基台(24)的顶部中间位置，两根所述顶杆(26)呈相对分布在基台(24)的顶部边缘位置，并与所述基台(24)固定连接，两组所述滑块(27...

【专利技术属性】
技术研发人员：李增福，孟令毅，周宏伟，余国栋，史士平，
申请(专利权)人：江苏应材微机电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：