一种静态膨胀法真空标准装置制造方法及图纸

技术编号:43923902 阅读:20 留言:0更新日期:2025-01-03 13:28
本发明专利技术提供了一种静态膨胀法真空标准装置,包括:相连接的一级标准室和二级标准室;若干样品室,分别通过密封阀连接所述二级标准室,若干所述样品室的一端设有活动阀门;抽气系统,用于对所述一级标准室、二级标准室和样品室抽真空;供气系统,用于对所述一级标准室、二级标准室和样品室供气;若干与所述样品室对应的容置件,每一所述容置件均设有用于容置若干待测样品的若干容置区;所述容置件用于容置若干待测样品进料至对应的所述样品室检测标准,标准完成后,关闭所述密封阀,所述供气系统对所述样品室供气复压后,所述活动阀门开启,所述容置件出料。可以实现通过静态膨胀法对待测样品进行批量检测标准。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及真空标准装置领域,具体是指一种静态膨胀法真空标准装置


技术介绍

1、真空技术广泛应用于航空航天、高能物理、半导体、微电子、汽车制造、制冷、太阳能、导航、船舶等众多行业,真空技术之一真空标定技术是保障真空测量值准确、产品质量的关键技术。

2、目前,真空标定技术中主要采用静态膨胀法对真空计的压力检测准确度是否符合标准进行标准,其中,真空计是一种用于测量气体压力和真空度的仪器,静态膨胀法具体是在低、中、高真空范围内产生标准压力的一种被广泛采用的精确方法,在高真空范围可以对磁悬浮等真空计进行标准,在低真空范围可以对电容薄膜等真空计进行标准。

3、然而,现有的静态膨胀法真空标准装置通常人工将待测真空计一一连接膨胀室后进行检测标准,这使得真空标准装置的标准效率十分低下,难以满足半导体、航空等领域对于大批量真空计进行快速检测标准的需求。

4、针对上述现有技术存在的问题设计一种静态膨胀法真空标准装置是本专利技术研究的目的。


技术实现思路

1、本专利技术提供了一种静态膨胀法真本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种静态膨胀法真空标准装置,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的一种静态膨胀法真空标准装置,其特征在于,若干所述样品室(3)横向延伸且内底部横向凹陷设有若干限位槽(33),所述容置件(6)的底部活动设有与若干所述限位槽(33)对应的若干排滚动件(62),所述容置区(61)为凹陷设于所述容置件(6)顶部的容置槽,所述样品室(3)一端的内顶部上凹形成限位区(34),所述容置件(6)的一端上凸设有与所述限位区(34)对应的限位部(63);所述容置件(6)通过若干排滚动件(62)与若干限位槽(33)之间的配合限位滑动进入所述样品室(3)后,所述限位部(63)横向限位设于所述...

【技术特征摘要】

1.一种静态膨胀法真空标准装置,其特征在于,包括:

2.如权利要求1所述的一种静态膨胀法真空标准装置,其特征在于,若干所述样品室(3)横向延伸且内底部横向凹陷设有若干限位槽(33),所述容置件(6)的底部活动设有与若干所述限位槽(33)对应的若干排滚动件(62),所述容置区(61)为凹陷设于所述容置件(6)顶部的容置槽,所述样品室(3)一端的内顶部上凹形成限位区(34),所述容置件(6)的一端上凸设有与所述限位区(34)对应的限位部(63);所述容置件(6)通过若干排滚动件(62)与若干限位槽(33)之间的配合限位滑动进入所述样品室(3)后,所述限位部(63)横向限位设于所述活动阀门(32)和限位区(34)之间。

3.如权利要求2所述的一种静态膨胀法真空标准装置,其特征在于,还包括对应若干所述活动阀门(32)的送料机构(7),所述样品室(3)的横向一端设有所述活动阀门(32)、横向另一端侧壁贯穿设有连接所述供气系统(5)的进气孔(35),所述容置件(6)的另一端部设为挡气部(64),所述挡气部(64)通过若干扭簧转动连接有竖向设置的挡片件(65),所述样品室(3)的横向另一端侧壁内限位滑动设有受伸缩驱动装置驱动伸缩的若干压块(36),若干所述压块(36)对应所述挡片件(65);所述容置件(6)受送料机构(7)驱动进料至所述样品室(3)内后,所述挡片件(65)受若干所述压块(36)伸出下压至横向限位设于所述容置件(6)顶部和若干所述压块(36)底部之间;标准完成后,所述供气系统(5)对所述样品室(3)供气复压,所述活动阀门(32)开启后,若干所述压块(36)回缩以使所述挡片件(65)受所述扭簧驱动复位至竖向设置,所述挡气部(64)和挡片件(65)与所述样品室(3)内壁和若干所述限位槽(33)间隙设置,所述供气系统(5)继续通过所述进气孔(35)对所述样品室(3)供气,以加压推动所述挡片件(65)和挡气部(64)带动所述容置件(6)出料至所述送料机构(7)输出。

4.如权利要求3所述的一种静态膨胀法真空标准装置,其特征在于,所述供气系统(5)所供气体为干燥氮气,所述容置件(6)的另一端顶部下凹形成位于所述挡气部(64)顶部的台阶部(66),所述挡片件(65)的下端通过若干所述扭簧转动连接所述台阶部(66)的端部,所述压块(36)底部靠近所述容置件(6)的一端倾斜设置形成对应所述挡片件(65)的导向面(361),所述伸缩驱动装置包括电磁铁和连接于所述电磁铁和压块(36)之间的弹簧,所述进气孔(35)和压块(36)的高度低于所述容置件(6)的高度,所述样品室(3)的高度为20mm-25mm;所述容置件(6)进料至所述样品室(3)内后,所述挡片件(65)受所述压块(36)下压横向嵌合设于所述台阶部(66)内,所述容置件(6)的另一端与所述进气孔(35)间距设置。

5.如权利要求3所述的一种静态膨胀法真空标准装置,其特征在于,所述容置件(6)底部上凹设有若干横向间隔设置的驱动槽(67),所述送料机构(7)包括受驱动组件驱动转动的若干输送带,若干所述输送带分别间距对应若干所述样品室(...

【专利技术属性】
技术研发人员:王小兵王旭东李明亮王云飞黄永刚曹兰
申请(专利权)人:福建建壹真空科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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